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光刻膠去膠液的應用案例
內容簡(jiǎn)介 光刻膠去膠液,光刻膠剝離液,光刻膠清洗劑,光刻膠除膠劑
光刻膠去膠液PL311是針對半導體晶圓芯片制造過(guò)程而設計，光刻膠層需要在制造過(guò)程結束時(shí)，從襯底表面去除?？梢匝杆偃コ饪棠z殘留、其它刻蝕殘留物、粉塵顆粒物、油污、手印、氧化硅拋光液殘留等臟污，不引入任何污染物，潔凈度高，對各種襯底材料、鍍膜層、金屬配線(xiàn)無(wú)腐蝕，無(wú)毒無(wú)刺激性氣味，環(huán)保安全。
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