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等離子清洗機光刻膠清洗增強親和力附著(zhù)
內容簡(jiǎn)介 光刻膠清洗機,等離子清洗機,等離子除膠,等離子活化
小型真空等離子清洗機 等離子體清洗的機理，主要是依靠等離子體中活性粒子的"活化作用"達到去除物體表面污漬的目的。等離子體清洗通常包括以下過(guò)程:無(wú)機氣體被激發(fā)為等離子態(tài);氣相物質(zhì)被吸附在固體表面;被吸附基團與固體表面分子反應生成產(chǎn)物分子;產(chǎn)物分子解析形成氣相;反應殘余物脫離表面。等離子體清洗技術(shù)的最大特點(diǎn)是不分處理對象的基材類(lèi)型，均可進(jìn)行處理，對金屬、半導體、氧化物和大多數高分子材料，可實(shí)現整體和局
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