深圳市華宇金屬材料有限公司位于深圳市的中部工業(yè)發(fā)達區龍華。公司產(chǎn)品延續深圳市新興金屬科技有限公司，創(chuàng )建于2005年，向PCB電鍍、化工廠(chǎng)家、化工設備，真空離子鍍膜、吸氣劑、鉻鋯銅合金、磁性材料，鋁鋯中間合金，等離子切割等領(lǐng)域的廠(chǎng)家供應有色金屬的鈦，鋯，鉿，鈮，鉭等的原材料及產(chǎn)品：
1）金屬鈦、結晶鈦、鈦板，鈦絲、鈦棒、鈦卷帶、鈦箔、鈦籃、鈦包銅、鈦管、鈦冷卻管、鈦螺絲等。
2）金屬鋯、高純鋯、海綿鋯，碘化鋯、結晶鋯、鋯錠、鋯籃、鋯靶、鋯屑、鋯邊角、鋯棒、鋯板、鋯管、鋯鋼反應釜罐，鋯盤(pán)管，鋯冷卻管，鋯絲、鋯箔、鋯帶、鋯舟、鋯杯、鋯螺絲、鋯包銅，鋯鐵，鋁鋯中間合金等。
3）結晶鉿，高純鉿，海綿鉿，鉿絲、鉿靶、鉿棒、鉿下角料、鉿錠、鉿屑等。4）金屬鉭，鉭板，鉭絲，鉭棒，鉭靶等。
5）金屬鈮，鈮錠，鈮板，鈮棒，鈮板，鈮粉等。
公司和內地、臺灣、韓國、泰國的許多企業(yè)建立了長(cháng)期的合作關(guān)系。公司秉誠以誠信為本、質(zhì)量、用戶(hù)至上的經(jīng)營(yíng)理念，堅持“誠實(shí)守信，精益求精”的精神宗旨，竭誠為廣大廠(chǎng)商提供的產(chǎn)品和服務(wù)，確保公司與客戶(hù)的持續發(fā)展。

磁控濺射鍍膜靶材：
金屬鋯濺射鍍膜靶材，合金濺射鍍膜靶材，陶瓷濺射鍍膜靶材，硼化物陶瓷濺射靶材，碳化物陶瓷濺射靶材，氟化物陶瓷濺射靶材 ，氮化物陶瓷濺射靶材 ，氧化物陶瓷靶材，硒化物陶瓷濺射靶材 ，硅化物陶瓷濺射靶材 ，硫化物陶瓷濺射靶材 ，碲化物陶瓷濺射靶材 ，其他陶瓷靶材，摻鉻一氧化硅陶瓷靶材(Cr-SiO)，磷化銦靶材(InP)，化鉛靶材(PbAs)，化銦靶材(InAs)。
高純高密度濺射靶材有：
濺射靶材（純度：99.9%-99.999%）

磁控濺射原理：鋯靶在被濺射的靶極(陰極)與陽(yáng)極之間加一個(gè)正交磁場(chǎng)和電場(chǎng)，在高真空室中充入所需要的惰性氣體(通常為Ar氣)，磁鐵在靶材料表面形成250～350高斯的磁場(chǎng)，同高壓電場(chǎng)組成正交電磁場(chǎng)。在電場(chǎng)的作用下，Ar氣電離成正離子和電子，靶上加有一定的負高壓，從靶極發(fā)出的電子受磁場(chǎng)的作用與工作氣體的電離幾率，在陰極附近形成高密度的等離子體，Ar離子在洛侖茲力的作用下加速飛向靶面，以很高的速度轟擊靶面，使靶上被濺射出來(lái)的原子遵循動(dòng)量轉換原理以較高的動(dòng)能脫離靶面飛向基片淀積成膜。 磁控濺射一般分為二種：支流濺射和射頻濺射，其中支流濺射設備原理簡(jiǎn)單，在濺射金屬時(shí)，其速率也快。而射頻濺射的使用范圍更為廣泛，除可濺射導電材料外，也可濺射非導電的材料，同時(shí)還司進(jìn)行反應濺射制備氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。若射頻的頻率提高后就成為微波等離子體濺射，常用的有電子回旋共振(ECR)型微波等離子體濺射。

各種類(lèi)型的濺射薄膜材料，鉿靶，鋯靶在半導體集成電路(VLSI)、光碟、平面顯示器以及工件的表面涂層等方面都得到了廣泛的應用。20世紀90年代以來(lái)，濺射靶材及濺射技術(shù)的同步發(fā)展，地滿(mǎn)足了各種新型電子元器件發(fā)展的需求。例如，在半導體集成電路制造過(guò)程中，以電阻率較低的銅導體薄膜代替鋁膜布線(xiàn)：在平面顯示器產(chǎn)業(yè)中，各種顯示技術(shù)(如LCD、PDP、OLED及FED等)的同步發(fā)展，有的已經(jīng)用于電腦及計算機的顯示器制造；在信息存儲產(chǎn)業(yè)中，磁性存儲器的存儲容量不斷增加，新的磁光記錄材料不斷推陳出新這些都對所需濺射靶材的質(zhì)量提出了越來(lái)越高的要求，需求數量也逐年增加。
市場(chǎng)概況
日本。就美國而言．約有50家中小規模的靶材制造商及經(jīng)銷(xiāo)商，其中大的公司員工大約有幾百人。不過(guò)為了能更接近使用者，以便提供更完善的售后服務(wù)，全球主要靶材制造商通常會(huì )在客戶(hù)所在地設立分公司。近段時(shí)間，的一些國家和地區，如臺灣．韓國和新加坡，就建立了越來(lái)越多制造薄膜元件或產(chǎn)品的工廠(chǎng)，如IC、液晶顯示器及光碟制造廠(chǎng)。
對靶材廠(chǎng)商而言，這是相當重要的新興市場(chǎng)。中國靶材產(chǎn)業(yè)發(fā)展也是與日俱增，不斷的擴大自己的規模和生產(chǎn)技術(shù)，國內一線(xiàn)生產(chǎn)制造靶材的已經(jīng)達到國外的技術(shù)水平。2010年，日本三菱公司就在中國臺灣地區建立了光碟塒靶材的生產(chǎn)基地，可以滿(mǎn)足臺灣50%的靶材需要。

金屬鋯靶材，金屬鉿靶，金屬鈦靶材
鎳靶、Ni、鈦靶、Ti、鋅靶、Zn、鉻靶、Cr、鎂靶、Mg、鈮靶、Nb、錫靶、Sn、鋁靶、Al、銦靶、In、鐵靶、Fe、鋯鋁靶、ZrAl、鈦鋁靶、TiAl、鋯靶、Zr、鋁硅靶、AlSi、硅靶、Si、銅靶Cu、鉭靶T、a、鍺靶、Ge、銀靶、Ag、鈷靶、Co、金靶、Au、釓靶、Gd、鑭靶、La、釔靶、Y、鈰靶、Ce、鎢靶、w、不銹鋼靶、鎳鉻靶、NiCr、鉿靶、Hf、鉬靶、Mo、鐵鎳靶、FeNi、鎢靶、W等。

可根據用戶(hù)需要制作。
鋯盤(pán)管換熱器:
規格；標準規格，功率有1.5KW-50KW,
形態(tài)；根據加熱功率，可制成“L”型，“U” “0"型等，并可附有過(guò)熱保護裝置。
用途；適用于鈦無(wú)法勝任的酸、堿介質(zhì)中（氫氟酸除外）。
在聚合物的生產(chǎn)中，鋯的應用是代替石墨作熱交換器。鋯熱交換器的成本雖比石墨約高4倍，比鈦約高 2倍，但它經(jīng)久耐用足以彌補成本費。

鋯換熱器產(chǎn)品介紹:
現在的搪瓷釜由于介質(zhì)的腐蝕性、反應條件忽冷忽熱等問(wèn)題，總會(huì )出現這樣那樣的搪瓷層損壞。一旦出現爆瓷現象,搪瓷面的損壞會(huì )迅速擴大，繁瑣的修補,停產(chǎn),安全事故及環(huán)境污染等不可預計的損失一直困擾著(zhù)國內眾多化工企業(yè).
取代搪瓷釜的金屬鋯盤(pán)管換熱器,解決化工行業(yè)所使用的搪瓷釜爆瓷,搪瓷面的損壞，不易修復(或者修復成本高)而報廢的成本問(wèn)題.由于金屬鋯材優(yōu)良的導熱性和強耐腐蝕性,在加熱,冷卻兩道工序上有效的縮短了生產(chǎn)時(shí)間,并且它特有的強耐腐蝕性這一特點(diǎn),從而了生產(chǎn)中不被各種工況的腐蝕性所腐蝕的要求,在生產(chǎn)旺季為生產(chǎn)出貨,創(chuàng )造了寶貴的時(shí)間,并且提高了產(chǎn)量,真正實(shí)現換熱設備零維護.
本產(chǎn)品已經(jīng)在國內,外大型農藥化工,醫藥化工,石化等行業(yè)投入使用,反應良好,歡迎有此需求,有此困擾的客戶(hù)來(lái)電咨詢(xún),洽談,我公司將在時(shí)間回復,配合.給予設備,技術(shù)上的支持.

我們曾在多種農藥設備上進(jìn)行過(guò)工業(yè)鋯的應用研究，如在農藥反應罐中進(jìn)行了鋯的實(shí)際應用與掛片試驗。農藥水解反應的條件為：20%硫酸+甲萘胺；溫度220-250℃；15個(gè)大氣壓（1520kPa)，一個(gè)流程時(shí)間為7h，在此條件下設備腐蝕嚴重，1mm厚普通鋼板，反應后即腐蝕穿孔。原采用罐內搪12- 14mm厚的鉛層為防腐層，則易污染環(huán)境，鉛的抗腐蝕也較差，一個(gè)搪鉛反應罐，僅能使用50-60批料即穿孔漏液。鋯掛片試驗條件為：生產(chǎn)介質(zhì)20%硫酸+甲萘胺；生產(chǎn)200-250℃；壓力14-15個(gè)大氣（1419- 1520kPa)。結果表明，隨時(shí)間增加，鋯母材與焊縫區氧含量稍有增加，但增加速度較緩，對鋯的力學(xué)性能未引起惡化。而氫含量卻在這種介質(zhì)腐蝕中逐漸下降，可減少脆性，對鋯有利，年腐蝕率僅為 0.024-0.04mm/a。

化工反應釜的工作方式：
一般與瑭玻璃鋼反應釜配合，作蒸汽加熱或水冷卻之用。管內大壓力根據臂厚不同可承受壓力６～２０㎏，換熱面積按設計要求制作。
1、耐用程度遠比（搪玻璃反應釜）高出３－５倍（一但搪玻璃釜內膽磕碰，掉釉，壽命只有4-12個(gè)月）
2、加熱或冷卻效率比（搪玻璃反應釜）在單位容器，單位時(shí)間快6個(gè)小時(shí)，也就是說(shuō)如果改用鋯盤(pán)管換熱，兩臺釜可以出來(lái)三臺的產(chǎn)量。
3、我公司有豐富的改裝，維護，施工經(jīng)驗。
如果有對此產(chǎn)品有興趣的朋友可以給我電話(huà)，一起探討，用鋯材的換熱器價(jià)格肯定比搪玻璃的貴，比方一套6300L的釜，使用R60702鋯材盤(pán)管換熱器價(jià)格大概15W，但是經(jīng)過(guò)我公司改裝過(guò)的和新上這種設備的客戶(hù)在使用后，對本產(chǎn)品都是肯定的，貴的值得，貴的有道理，不論是在經(jīng)濟上（假以時(shí)日鋯換熱器還是比搪玻璃經(jīng)濟），還是在生產(chǎn)（產(chǎn)量），維護上（零維護），比使用搪玻璃換熱的要好的多