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蝕刻(etching)又稱(chēng)為光化學(xué)蝕刻,是把材料使用化學(xué)反應或物理撞擊作用而移除的技術(shù),可分為濕蝕刻(wet etching)和干蝕刻(dry etching)兩種類(lèi)型。通常所指蝕刻也稱(chēng)光化學(xué)蝕刻(photochemical etching),指通過(guò)曝光制版、顯影后,將要蝕刻區域的保護膜去除,在蝕刻時(shí)接觸化學(xué)溶液,達到溶解腐蝕的作用,形成凹凸或者鏤空成型的效果。
蝕刻是使用強酸切入金屬表面未受保護的部分,以在金屬上產(chǎn)生凹版設計(通過(guò)切割、雕刻或雕刻成平面來(lái)產(chǎn)生圖像)的過(guò)程。作為一種凹版版畫(huà)制作方法,它和雕刻一樣,是舊原版版畫(huà)重要的技術(shù),至今仍被廣泛使用。
蝕刻加工能夠用于在金屬、塑料、玻璃等材料表面制作出文字和圖案。這一過(guò)程也被稱(chēng)為蝕刻加工。蝕刻技術(shù)被廣泛應用在制作標識、商標、圖案等。通過(guò)選擇合適的蝕刻劑和工藝參數,還能實(shí)現對材料表面的保護和加工,使其具有更強的耐腐蝕性、耐磨損性等特性。
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