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抽空時(shí)間相同，而真空度偏低，這時(shí)候關(guān)閉主閥，如真空計指針很快下降，多數情況是真空室漏，應先查出漏點(diǎn)。如真空計指針下降很慢，多數情況是真空機組抽氣能力不夠，查找真空泵及閥門(mén)看哪里出現泄漏，或是擴散泵油污染或氧化；或前級管路密封不好，泵油不足；或泵油乳化，軸封漏油等。漏--分內漏和外漏，較大的漏點(diǎn)可以用火焰法，利用氣流能使火焰偏離的原理，先抽上真空，比如用蠟燭或打火機在可疑點(diǎn)附近逐步查尋，會(huì )發(fā)現火苗向漏點(diǎn)偏移，則可找到漏點(diǎn)。查找小漏和微漏：利用在高真空狀態(tài)下電離管對某些氣體反應敏感來(lái)檢漏，比如丙酮或乙醇，用醫用注射器向可疑的地方噴射丙酮或乙醇，噴到漏點(diǎn)時(shí)，電離計的指針會(huì )有明顯擺動(dòng)。用這種方法檢漏一定要有耐心，一定要等到電離計的示值穩定了--也就是真空機組的抽氣能力和漏率平衡了，然后再?lài)娚?。好是反復幾次，確認漏點(diǎn)。內漏多發(fā)生在有水冷套的設備上，查外漏沒(méi)有發(fā)現疑點(diǎn)，但是卻有以下現象：機械泵的抽速明顯偏低、真空計示值低、機械泵油很快乳化、真空室內的鐵基零部件明顯銹蝕。具備以上條件基本可以確定有內漏。

離子滲氮：可以在輝光放電條件下，將N、C等元素滲入到零件和模具內部、明顯提高表面硬度、抗疲勞等性能和耐腐蝕性，相對于總體滲氮處理時(shí)間短、濕度低、變形小、表面性能可控，可用于各種鋼鐵及鈦合金結構件，各種模具和各種不銹鋼制品。
等離子體化學(xué)氣相沉積設備與技術(shù)(離子滲氮，氮碳共滲)
等離子體化學(xué)氣相沉積（PCVD）是一種新型的脈沖直流等離子體輔助沉積硬質(zhì)鍍膜新技術(shù)。在一定壓力、溫度的真空爐內，加入適當比例的不同工作氣體，在脈沖電壓的作用下，通過(guò)輝光放電產(chǎn)生均勻等離子體。在不同工藝條件下，可在被處理工件表面形成各種硬質(zhì)膜如TiN、TiC、TiCN、(Ti、Si)N、(Ti、Si)CN及多層復合膜等，顯微硬度高達HV2000--2500。

需要鍍膜的被稱(chēng)為基片，鍍的材料被稱(chēng)為靶材。 基片與靶材同在真空腔中。
蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來(lái)。并且沉降在基片表面，通過(guò)成膜過(guò)程（散點(diǎn)－島狀結構-迷走結構-層狀生長(cháng)）形成薄膜。 對于濺射類(lèi)鍍膜，可以簡(jiǎn)單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來(lái)，并且終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過(guò)程，終形成薄膜。

裝飾真空鍍膜設備是蒸發(fā)式鍍膜裝置，在真空室中利用電阻加熱法，將緊貼在電阻絲上的金屬絲（鋁絲）熔融汽化，汽化了金屬分子沉積于基片上，而獲得光滑高反射率的膜層，達到裝飾美化物品表面的目的。

　　該設備具有：結構合理，膜層均勻、成膜質(zhì)量好、抽速大、工作同期短、生產(chǎn)、操作方便，能耗低性能穩定等優(yōu)點(diǎn)。廣泛應用于汽車(chē)、音響、各類(lèi)小家電、電腦、鐘表、玩具、手機、反光杯、化妝品、玩具等行業(yè)。

　　可加工的材料包括：ABS、PS、PP、PC、PVC、尼龍、金屬、波麗、玻璃、陶瓷、TPU等。

　　鍍制效果有：普通電鍍亮面、啞面（半啞、全?。?、工藝電鍍皺紋、拉絲、雨滴、七彩等；鍍制顏色有：金、銀、紅、藍、綠、紫、七彩等等。

直接的鍍膜控制方法是石英晶體微量平衡法(QCM)，這種儀器可以直接驅動(dòng)蒸發(fā)源，通過(guò)PID控制循環(huán)驅動(dòng)擋板，保持蒸發(fā)速率。只要將儀器與系統控制軟件相連接，它就可以控制整個(gè)的鍍膜過(guò)程。但是(QCM)的度是有限的，部分原因是由于它監控的是被鍍膜的質(zhì)量而不是其光學(xué)厚度。
? ? 此外雖然QCM在較低溫度下非常穩定，但溫度較高時(shí)，它會(huì )變得對溫度非常敏感。在長(cháng)時(shí)間的加熱過(guò)程中，很難阻止傳感器跌入這個(gè)敏感區域，從而對膜層造成重大誤差。
? ? 光學(xué)監控是高精密鍍膜的的監控方式，這是因為它可以更地控制膜層厚度(如果運用得當)。度的改進(jìn)源于很多因素,但根本的原因是對光學(xué)厚度的監控。
? ? OPTIMAL SWA-I-05單波長(cháng)光學(xué)監控系統，是采用間接測控，結合汪博士開(kāi)發(fā)的光學(xué)監控軟件，有效提高光學(xué)反應對膜厚度變化靈敏度的理論和方法來(lái)減少誤差，提供了反饋或傳輸的選擇模式和大范圍的監測波長(cháng)。特別適合于各種膜厚的鍍膜監控包括非規整膜監控。

懸浮式高真空卷繞式鍍膜機的卷繞控制要求的轉矩控制，以般采用直流驅動(dòng)，但是隨著(zhù)交流驅動(dòng)技術(shù)的飛速發(fā)展，現在逐步采用交流永磁同步伺服電機或交流異步電機驅動(dòng)。丹佛斯FC302系列驅動(dòng)器具有伺服級的驅動(dòng)性能，驅動(dòng)交流異步電機也有實(shí)現平穩的轉矩控制，為這個(gè)行業(yè)提供了一種易用的解決方案，用戶(hù)只需要設置幾個(gè)簡(jiǎn)單的參數，就能滿(mǎn)足實(shí)際生產(chǎn)需求，操作和調試也非常簡(jiǎn)便。
　　一、懸浮式高真空卷繞式鍍膜機的傳動(dòng)結構：
　　放卷轉向為正
　　放卷轉向為負
　　3驅動(dòng)懸浮式高真空卷繞式鍍膜機的典型傳動(dòng)結構，其中：
　　M1為冷卻輥，直徑恒定，由一臺FC302驅動(dòng)，冷輥的速度即為鍍膜的線(xiàn)速度。
　　M2為收卷輥，中心卷繞，直徑逐步變大，由一臺FC302驅動(dòng)，提供收卷張力。
　　M3為放卷輥，中心卷繞，直徑逐步變小，由一臺FC302驅動(dòng)，提供放卷張力。
　　冷卻輥和收卷輥的轉向是固定的，但是放卷輥由于卷筒卷繞方向不同，工作時(shí)有正、反兩種轉向，對應反、正兩種轉矩。

　　真空鍍膜機傳動(dòng)系統的特點(diǎn)：
　　1.由于真空室狹小，無(wú)法安裝張力檢測裝置，所以收、放卷張力完全要靠收、放卷驅動(dòng)的電機直接控制。因此收、放卷驅動(dòng)器都工作于轉矩工作模式。對于較輕較薄的材料，收卷還有張力錐度功能。
　　2.由于工藝方面的原因，起主傳動(dòng)作用的冷卻輥上沒(méi)有壓輥，因此冷卻輥只能靠摩擦力帶動(dòng)薄膜；收、放卷張力相差較大時(shí)，薄膜很容易在冷卻輥上打滑。如何防止打滑是驅動(dòng)控制方面的難題。