有些真空鍍膜機真空計的讀數，與氣體種類(lèi)有關(guān)，比如熱偶計，電離真空計。選用適當的氣體或液體做示漏物質(zhì)，這些真空計便成了探測器，一般鍍膜機上都有真空計，使用起來(lái)很方便，也是常用到的一種檢漏方法。用于熱偶計的示漏物質(zhì)有，二氧化碳，丁烷，酒精等熱偶計反應較慢，觀(guān)察要很仔細。用于電離計的示漏物質(zhì)有氦，氬，酒精等。

真空系統是鍍膜機達到工藝條件的基本設備，其真空度達不到或者達到真空度速度慢，都有可能是由于存在漏點(diǎn)所致，所以真空卷繞鍍膜機設備的真空系統需要定期真空檢漏。真空卷繞鍍膜機通常采用氦質(zhì)檢漏儀來(lái)查漏，主要用負壓法檢漏即將氦質(zhì)譜檢漏儀的檢漏口接入鍍膜機的真空系統，在可能泄漏地方噴氦檢漏。

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蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來(lái)。并且沉降在基片表面，通過(guò)成膜過(guò)程（散點(diǎn)－島狀結構-迷走結構-層狀生長(cháng)）形成薄膜。 對于濺射類(lèi)鍍膜，可以簡(jiǎn)單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來(lái)，并且終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過(guò)程，終形成薄膜。

真空鍍膜機為什么會(huì )越來(lái)越慢這種情況有兩種可能
1、設備內部由于長(cháng)時(shí)間鍍膜導致有些臟東西在加熱時(shí)放氣，所以這種情況需要維護，即把內部屏蔽板拆下噴砂或脫膜，清理。
2、由微小的滲漏，沒(méi)有發(fā)現，尤其是各個(gè)傳動(dòng)部位密封，這種情況就是比較難查，如果沒(méi)有檢漏儀，就只能一部分一部分拆卸或用盲板逐步替換予以排除。也有人用注射針頭注射酒精觀(guān)察真空計的變化檢查，但一般漏的不大時(shí)不好判斷，至于你說(shuō)的真空1.9的那個(gè)其實(shí)也并不高，還有就是漏率是按照你的設備體積以及單位時(shí)間的真空下降程度來(lái)算的不是按照真空值計算的，比如你的真空泵抽速好，抽氣能力強就有可能克服微漏而使真空顯示較高的數值。

真空鍍膜機的工作原理如下：
在鍍膜領(lǐng)域，鍍膜后薄膜樣品的厚度是影響薄膜性能的一個(gè)重要因素。因此，當評價(jià)某薄膜樣品的性能時(shí)，需要檢測該薄膜樣品不同厚度下的性能。對于真空鍍膜的情形，這往往需要進(jìn)行多次試樣的制備。而這樣多次制備樣品存在兩個(gè)問(wèn)題：，不同次生長(cháng)的樣品，儀器的狀態(tài)不同，以至于影響薄膜樣品性能的因素可能不僅僅是厚度；其次，真空鍍膜實(shí)驗裝取樣品需要重新進(jìn)行真空的獲得，非常耗時(shí)。增加了生產(chǎn)和檢測的成本。
因此，提供一種多功能磁控濺射鍍膜系統，本系統由真空鍍膜系統和手套箱系統集成而成，可在高真空蒸鍍腔室中完成薄膜蒸鍍，并在手套箱高純惰性氣體氛圍下進(jìn)行樣品的存放、制備以及蒸鍍后樣品的檢測。蒸發(fā)鍍膜與手套箱組合，實(shí)現蒸鍍、封裝、測試等工藝全封閉制作，使整個(gè)薄膜生長(cháng)和器件制備過(guò)程高度集成在一個(gè)完整的可控環(huán)境氛圍的系統中，消除有機大面積電路制備過(guò)程中大氣環(huán)境中不穩定因素影響，保障了、大面積有機光電器件和電路的制備。