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回收真空鍍膜機生產(chǎn)線(xiàn)設備 |
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真空鍍膜機具有高真空度、高沉積速率、均勻性好等優(yōu)點(diǎn),可以在不同材料和形狀的物體上進(jìn)行鍍膜。它在電子、光學(xué)、材料等領(lǐng)域有廣泛的應用,如光學(xué)鍍膜、金屬鍍膜、硬質(zhì)涂層等。
蒸發(fā)源是將材料加熱至其熔點(diǎn)或沸點(diǎn),使其蒸發(fā)到基材上形成薄膜的裝置。濺射源則是通過(guò)在材料表面轟擊高能粒子,使其濺射出來(lái),并沉積在基材上。離子源則通過(guò)離子轟擊基材表面,使其表面活化并提高薄膜質(zhì)量。
氣體控制系統用于控制真空腔體內的氣體壓力和組成,以調節薄膜的性質(zhì)??刂葡到y則是用于對各個(gè)部件進(jìn)行控制和監控,以實(shí)現對薄膜制備過(guò)程的控制。
真空鍍膜機廣泛應用于光學(xué)、電子、材料等領(lǐng)域,用于制備反射鏡、透鏡、光學(xué)濾波器、導電膜等功能薄膜。
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