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多功用磁控濺射鍍膜系統,由真空鍍膜系統和手套箱系統集成而成,可在高真空蒸鍍腔室中完結薄膜蒸鍍,并在手套箱高純惰性氣體氣氛下進(jìn)行樣品的寄存、制備以及蒸鍍后樣品的檢測。蒸騰鍍膜與手套箱組合,實(shí)現蒸鍍、封裝、測驗等工藝全封閉制造,使整個(gè)薄膜生長(cháng)和器材制備過(guò)程高度集成在一個(gè)完整的可控環(huán)境氣氛的系統中,消除有機大面積電路制備過(guò)程中大氣環(huán)境中不穩定因素影響,保障了高功用、大面積有機光電器材和電路的制備。
真空鍍膜機的污染物可以定義為“任何一種無(wú)用的物質(zhì)或能量”。多弧離子鍍膜機根據污染物的物理狀態(tài)可分為固態(tài)、氣態(tài)和液態(tài),污染物以薄膜或顆粒的形式存在。就其化學(xué)特性而言,它可以是離子態(tài)或共價(jià)態(tài),無(wú)機態(tài)或有機態(tài)。
與傳統的鍍膜方法相比,真空鍍膜屬于干法鍍膜,其主要方法有以下幾種:
1.真空蒸發(fā)
其原理是在真空條件下,用蒸發(fā)器加熱蒸發(fā)材料使其蒸發(fā)或升華,蒸發(fā)的離子流直接射向基片,在基片上沉積固體薄膜。
2.濺射涂層
濺射鍍膜是一種真空條件,在陰極施加2000V高壓激發(fā)輝光放電,帶正電的氬離子撞擊陰極噴出原子。濺射的原子通過(guò)惰性氣氛沉積在襯底上形成薄膜。17_副本.jpg
3.離子電鍍法
即干式螺桿真空泵制造商已經(jīng)推出的真空離子涂層。它是在上述兩種真空鍍膜技術(shù)的基礎上發(fā)展起來(lái)的,所以具有兩者的工藝特點(diǎn)。在真空條件下,工作氣體或蒸發(fā)物質(zhì)(膜材料)通過(guò)氣體放電被部分電離,蒸發(fā)物質(zhì)或其反應物在離子轟擊下沉積在基片表面。在成膜的過(guò)程中,襯底總是受到高能粒子的轟擊,這使得它非常干凈。
4.真空卷繞涂層
真空鍍膜是通過(guò)物理氣相沉積在柔性基板上進(jìn)行連續鍍膜的技術(shù),以實(shí)現柔性基板的某些功能性和裝飾性。
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公司成立時(shí)間:2014-11-03 |
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公司郵編:518000 |
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