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對比幾個(gè)真空鍍膜機的檢漏方法:
氦質(zhì)譜檢漏該工藝是真空鍍膜機真空檢漏技術(shù)里不可缺少的一種技術(shù),因為檢漏率,簡(jiǎn)單易使用,儀器設備反映靈敏,,不容易受別的氣體的影響,在檢漏中獲得了廣泛運用。氦質(zhì)譜檢漏儀是依據質(zhì)譜學(xué)基本原理,用氮氣作示漏氣體做成的氣密性檢測儀器。由離子源、解析器、回收器、冷陰極水解規構成的質(zhì)譜分析室和吸氣系統及電氣一部分等構成。質(zhì)譜分析室里的鎢絲發(fā)送出去的電子,在房間內不停地震蕩,并與房間內空氣和經(jīng)漏孔進(jìn)入到屋內的氦氣互相撞擊使其水解成共價(jià)鍵,這種氦離子在加快靜電場(chǎng)的作用下進(jìn)入到磁場(chǎng),因為洛倫茲力作用產(chǎn)生偏轉,產(chǎn)生圓弧狀軌道,更改加速電壓可使不一樣品質(zhì)的離子通過(guò)磁場(chǎng)和接受縫抵達接收極而被檢驗。噴氦法、吸氦法是氦質(zhì)譜檢漏儀在檢漏中經(jīng)常使用的這兩種方式。采用真空法檢漏,鍍膜機不需要停機,直接在真空泵的旁路利用波紋管接入檢漏儀,在懷疑有漏的地方噴氦氣,即可完成檢漏。
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真空鍍膜機工作的環(huán)境要求:
真空鍍膜設備要在真空條件下工作,因此該設備要滿(mǎn)足真空對環(huán)境的要求。真空對環(huán)境的要求,一般包括真空設備對所處實(shí)驗室(或車(chē)間)的溫度、空氣中的微粒等周?chē)h(huán)境的要求,和對處于真空狀態(tài)或真空中的零件或表面要求兩個(gè)方面。
這兩個(gè)方面是有密切聯(lián)系的。周?chē)h(huán)境的好壞直接影響真空設備的正常使用;而真空設備的真空室或裝入里面的零件是否清洗,又直接影響設備的性能。如果空氣中含有大量的水蒸氣和灰塵,在真空室沒(méi)有經(jīng)過(guò)清洗的情況下用油封機械泵去抽氣,要達到預期的真空度很難的。眾所周,油封式機械泵不宜抽除對金屬有腐蝕性、對真空油其反應的以含有顆粒塵埃的氣體。水蒸氣為可凝性氣體,當大量抽除可凝性氣體時(shí),對泵油的污染會(huì )更加嚴重,結果使泵的極限真空下降,破壞了泵的抽氣性能。
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真空鍍膜工藝在傳感器方面的運用在傳感器中,多選用那些電氣性質(zhì)相關(guān)于物理量、化學(xué)量及其變化來(lái)說(shuō),極為敏感的半導體資料。此外,其中大多數運用的是半導體的外表、界面的性質(zhì),需求盡量增大其面積,且能工業(yè)化、低報價(jià)制造、因而選用薄膜的狀況許多。
鍍膜機工藝在裝飾品方面的運用跟著(zhù)經(jīng)濟的開(kāi)展和生活水平的進(jìn)步,大家喜愛(ài)將手表殼、表帶、服飾、燈飾、眼鏡架、室表里裝飾件、五金箱包、手機殼、手機視屏、衛生潔具、食品包裝等裝飾品精飾得五光十色。
主要由真空鍍膜機室、真空抽氣機組及電柜(控制電柜、電子槍電柜)組成,其廣泛應用于微電子、光學(xué)成膜、民用裝飾、表面工程等領(lǐng)域。
光學(xué)鍍膜設備工作原理是在高真空狀態(tài)下、利用電子束對金屬或非金屬材料加熱到適當的溫度,材料受熱后蒸發(fā)成蒸汽分子。它的平均自由程比蒸發(fā)源至被蒸發(fā)基片距離大,蒸發(fā)出來(lái)的蒸汽分子向四處直射,碰到基片就沉積在基片表面形成膜層。
維護與保養主要包換電子槍安裝與維護、光路的檢修與維護、設備的清洗與保養。
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