有些真空鍍膜機真空計的讀數，與氣體種類(lèi)有關(guān)，比如熱偶計，電離真空計。選用適當的氣體或液體做示漏物質(zhì)，這些真空計便成了探測器，一般鍍膜機上都有真空計，使用起來(lái)很方便，也是常用到的一種檢漏方法。用于熱偶計的示漏物質(zhì)有，二氧化碳，丁烷，酒精等熱偶計反應較慢，觀(guān)察要很仔細。用于電離計的示漏物質(zhì)有氦，氬，酒精等。

真空系統是鍍膜機達到工藝條件的基本設備，其真空度達不到或者達到真空度速度慢，都有可能是由于存在漏點(diǎn)所致，所以真空卷繞鍍膜機設備的真空系統需要定期真空檢漏。真空卷繞鍍膜機通常采用氦質(zhì)檢漏儀來(lái)查漏，主要用負壓法檢漏即將氦質(zhì)譜檢漏儀的檢漏口接入鍍膜機的真空系統，在可能泄漏地方噴氦檢漏。

蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來(lái)。并且沉降在基片表面，通過(guò)成膜過(guò)程（散點(diǎn)－島狀結構-迷走結構-層狀生長(cháng)）形成薄膜。 對于濺射類(lèi)鍍膜，可以簡(jiǎn)單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來(lái)，并且終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過(guò)程，終形成薄膜。

真空鍍膜機為什么會(huì )越來(lái)越慢這種情況有兩種可能
1、設備內部由于長(cháng)時(shí)間鍍膜導致有些臟東西在加熱時(shí)放氣，所以這種情況需要維護，即把內部屏蔽板拆下噴砂或脫膜，清理。
2、由微小的滲漏，沒(méi)有發(fā)現，尤其是各個(gè)傳動(dòng)部位密封，這種情況就是比較難查，如果沒(méi)有檢漏儀，就只能一部分一部分拆卸或用盲板逐步替換予以排除。也有人用注射針頭注射酒精觀(guān)察真空計的變化檢查，但一般漏的不大時(shí)不好判斷，至于你說(shuō)的真空1.9的那個(gè)其實(shí)也并不高，還有就是漏率是按照你的設備體積以及單位時(shí)間的真空下降程度來(lái)算的不是按照真空值計算的，比如你的真空泵抽速好，抽氣能力強就有可能克服微漏而使真空顯示較高的數值。

如何處理真空鍍膜的灰塵呢
1、設備使用的源材料要符合必要的純度要求。
2、設備樣品取出后要注意放置環(huán)境的清潔問(wèn)題。
3、真空鍍膜一段時(shí)間后，真空室內壁要清潔處理。
4、真空鍍膜清洗襯底材料，要做到嚴格合乎工藝要求。
5、真空鍍膜適當的增加環(huán)境的濕度，有利于降低周?chē)h(huán)境的懸浮固體顆粒物。
6、工作人員在操作時(shí)需要戴手套、腳套等，要有的服裝。
由于灰塵對鍍膜效果會(huì )產(chǎn)生比較大的影響，因此為了避免在真空鍍膜設備中留下灰塵，應該在使用中注意以上幾點(diǎn)來(lái)盡量避免，除此也要注意經(jīng)常清洗，避免灰塵越積越多。

主要由真空鍍膜機室、真空抽氣機組及電柜（控制電柜、電子槍電柜）組成，其廣泛應用于微電子、光學(xué)成膜、民用裝飾、表面工程等領(lǐng)域。
光學(xué)鍍膜設備工作原理是在高真空狀態(tài)下、利用電子束對金屬或非金屬材料加熱到適當的溫度，材料受熱后蒸發(fā)成蒸汽分子。它的平均自由程比蒸發(fā)源至被蒸發(fā)基片距離大，蒸發(fā)出來(lái)的蒸汽分子向四處直射，碰到基片就沉積在基片表面形成膜層。
維護與保養主要包換電子槍安裝與維護、光路的檢修與維護、設備的清洗與保養。