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真空鍍膜機的工作原理如下：
在鍍膜領(lǐng)域，鍍膜后薄膜樣品的厚度是影響薄膜性能的一個(gè)重要因素。因此，當評價(jià)某薄膜樣品的性能時(shí)，需要檢測該薄膜樣品不同厚度下的性能。對于真空鍍膜的情形，這往往需要進(jìn)行多次試樣的制備。而這樣多次制備樣品存在兩個(gè)問(wèn)題：，不同次生長(cháng)的樣品，儀器的狀態(tài)不同，以至于影響薄膜樣品性能的因素可能不僅僅是厚度；其次，真空鍍膜實(shí)驗裝取樣品需要重新進(jìn)行真空的獲得，非常耗時(shí)。增加了生產(chǎn)和檢測的成本。
因此，提供一種多功能磁控濺射鍍膜系統，本系統由真空鍍膜系統和手套箱系統集成而成，可在高真空蒸鍍腔室中完成薄膜蒸鍍，并在手套箱高純惰性氣體氛圍下進(jìn)行樣品的存放、制備以及蒸鍍后樣品的檢測。蒸發(fā)鍍膜與手套箱組合，實(shí)現蒸鍍、封裝、測試等工藝全封閉制作，使整個(gè)薄膜生長(cháng)和器件制備過(guò)程高度集成在一個(gè)完整的可控環(huán)境氛圍的系統中，消除有機大面積電路制備過(guò)程中大氣環(huán)境中不穩定因素影響，保障了、大面積有機光電器件和電路的制備。
真空鍍膜工藝在信息存儲范疇中的運用薄膜資料作為信息記載于存儲介質(zhì)，有其得天厚的優(yōu)勢：因為薄膜很薄能夠疏忽渦流損耗；磁化回轉極為敏捷；與膜面平行的雙穩態(tài)狀況簡(jiǎn)單保持等。為了更精細地記載與存儲信息，必定要選用鍍膜技能。
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