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蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來(lái)。并且沉降在基片表面,通過(guò)成膜過(guò)程(散點(diǎn)-島狀結構-迷走結構-層狀生長(cháng))形成薄膜。?
對于濺射類(lèi)鍍膜,可以簡(jiǎn)單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材,并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來(lái),并且終沉積在基片表面,經(jīng)歷成膜過(guò)程,終形成薄膜。
在光學(xué)薄膜的尺度上看(也就是1/10波長(cháng)作為單位,約為100A),真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當好,可以輕松將粗糙度控制在可見(jiàn)光波長(cháng)的1/10范圍內,也就是說(shuō)對于薄膜的光學(xué)特性來(lái)說(shuō),真空鍍膜沒(méi)有任何障礙。?
濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld,組分均勻性容易保持,而原子尺度的厚度均勻性相對較差(因為是脈沖濺射),晶向(外沿)生長(cháng)的控制也比較一般。
3. 開(kāi)維持泵、真空計電源,真空計檔位置V1位置,等待其值小于10后,再進(jìn)入下一步操作。約需5分鐘。
4. 開(kāi)機械泵、予抽,開(kāi)渦輪分子泵電源、啟動(dòng),真空計開(kāi)關(guān)換到V2位置,抽到小于2為止,約需20分鐘。
5. 觀(guān)察渦輪分子泵讀數到達250以后,關(guān)予抽,開(kāi)前機和
高閥繼續抽真空,抽真空到達一定程度后才能開(kāi)右邊的高真空表頭,觀(guān)察真空度。真空到達2×10-3以后才能開(kāi)電子槍電源。 1. 總電源。
2. 同時(shí)開(kāi)電子槍控制Ⅰ和電子槍控制Ⅱ電源:按電子槍控制Ⅰ電源、延時(shí)開(kāi)關(guān),延時(shí)、電源及保護燈亮,三分鐘后延時(shí)及保護燈滅,若后門(mén)未關(guān)好或水流繼電器有故障,保護燈會(huì )常亮。
3. 開(kāi)高壓,高壓會(huì )達到10KV以上,調節束流可到200mA左右,簾柵為20V/100mA,燈絲電流1.2A,偏轉電流在1~1.7之間擺動(dòng)。 1. 關(guān)高真空表頭、關(guān)分子泵。
2. 待分子泵顯示到50時(shí),依次關(guān)高閥、前級、機械泵,這期間約需40分鐘。
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離子鍍膜,一個(gè)精密的工藝過(guò)程,其核心是離子濺射鍍膜。對于導電靶,偏壓電源扮演了關(guān)鍵角色,采用直流電場(chǎng)的精密調控,確保陰極表面的電子被加速,進(jìn)而轟擊氣體分子,引發(fā)電離現象。這個(gè)過(guò)程中,電子被電場(chǎng)驅動(dòng),形成雪崩效應,直至氣體被擊穿,形成穩定的電離電流,進(jìn)而驅動(dòng)離子加速,撞擊靶材,將原子釋放并沉積在樣品表面,形成所需涂層。
偏壓電源,就像熒光燈中的核心組件,它通過(guò)高頻轉換電路,以單極性脈沖方式輸出。電源電壓的精細調整通過(guò)改變高頻轉換電路的輸入電壓實(shí)現,穩壓性能高達1%。這種設計允許在工藝所需電壓的同時(shí),通過(guò)調整脈沖寬度來(lái)控制工件的加熱效果,適用于各種涂層需求,從工具保護到裝飾美化。
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抽空時(shí)間相同,而真空度偏低,這時(shí)候關(guān)閉主閥,如真空計指針很快下降,多數情況是真空室漏,應先查出漏點(diǎn)。如真空計指針下降很慢,多數情況是真空機組抽氣能力不夠,查找真空泵及閥門(mén)看哪里出現泄漏,或是擴散泵油污染或氧化;或前級管路密封不好,泵油不足;或泵油乳化,軸封漏油等。漏--分內漏和外漏,較大的漏點(diǎn)可以用火焰法,利用氣流能使火焰偏離的原理,先抽上真空,比如用蠟燭或打火機在可疑點(diǎn)附近逐步查尋,會(huì )發(fā)現火苗向漏點(diǎn)偏移,則可找到漏點(diǎn)。查找小漏和微漏:利用在高真空狀態(tài)下電離管對某些氣體反應敏感來(lái)檢漏,比如丙酮或乙醇,用醫用注射器向可疑的地方噴射丙酮或乙醇,噴到漏點(diǎn)時(shí),電離計的指針會(huì )有明顯擺動(dòng)。用這種方法檢漏一定要有耐心,一定要等到電離計的示值穩定了--也就是真空機組的抽氣能力和漏率平衡了,然后再?lài)娚?。好是反復幾次,確認漏點(diǎn)。內漏多發(fā)生在有水冷套的設備上,查外漏沒(méi)有發(fā)現疑點(diǎn),但是卻有以下現象:機械泵的抽速明顯偏低、真空計示值低、機械泵油很快乳化、真空室內的鐵基零部件明顯銹蝕。具備以上條件基本可以確定有內漏。
真空蒸發(fā)鍍膜設備主要用于在經(jīng)予處理的塑料、陶瓷等制品表面蒸鍍金屬薄膜(鍍鋁、鉻、錫、不銹鋼等金屬)、七彩膜仿金膜等,從而獲得光亮、美觀(guān)、的塑料,陶瓷表面金屬化制品。廣泛應用于工藝美術(shù)、裝璜裝飾、燈具、家具、玩具、酒瓶蓋、女式鞋后跟等領(lǐng)域,
JTPZ多功能鍍膜技術(shù)及設備(加有射頻等離子體聚合的蒸發(fā)鍍膜機),針對汽車(chē)、摩托車(chē)燈具而設計的,在一個(gè)真空室內完成蒸發(fā)鍍鋁和射頻等離子體鍍保護膜,這種鍍膜后燈具具有“三防”功能。射頻等離子體聚合膜還應用于光學(xué)產(chǎn)品、磁記錄介質(zhì)、軍事保護膜;防潮增透膜;防銹抗腐蝕;耐磨增硬膜。
真空鍍膜加工中冷卻設備需要提供智能、穩定的冷凍水,來(lái)確保真空鍍膜工藝中電鍍液的溫度恒定,所以會(huì )選擇使用水冷式冷水機來(lái)作為真空鍍膜加工冷卻設備。
一 真空鍍膜加工中冷卻設備冷水機的作用
真空鍍膜加工過(guò)程中,真空鍍膜機作為主要設備,工作過(guò)程中有高頻電流過(guò)程,電導會(huì )在反復過(guò)程中產(chǎn)生大量熱能并且集聚在一起,需要冷卻設備及時(shí)地進(jìn)行冷卻,避免設備部件損壞,影響使用壽命;另外,真空鍍膜電鍍液需要根據電鍍產(chǎn)品不同進(jìn)行溫度調節,并保持相對恒溫,反復鍍膜會(huì )造成鍍液溫度升高,同樣需要冷卻設備來(lái)準確地控制和穩定電鍍液的溫度。在工業(yè)生產(chǎn)控溫中,根據真空鍍膜加工的實(shí)際需求,選用相應規格的冷水機設備來(lái)進(jìn)行、穩定的溫度控制調節是經(jīng)濟有效的解決方案。
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