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合慶鎮金屬鉭回收色澤光潤鉭電容回收

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一定工作壓力下,制備的氮化鉭薄膜硬度高達4000kg/mm2以上。本文探討了氮化鉭薄膜高硬度的原因,并且討論了隨氮分壓的提高薄膜織構變化的原因

利用磁控反應濺射技術(shù)制備氮化鉭薄膜,對磁控反應濺射制備氮化鉭薄膜的工藝參數(包括氮分壓比、加熱溫度、濺射壓力、濺射電流)用正交設計進(jìn)行優(yōu)化

氮化鉭為黑色六方結晶。相對密度為13.4,熔點(diǎn)為3090℃,顯微硬度為1100kg/mm2,熱導率為9.54W/(m·K),電阻率為128μΩ·cm

利用磁控反應濺射技術(shù)制備了氮化鉭薄膜,利用TEM、XRD技術(shù)研究了薄膜的微觀(guān)結構。研究結果表明:薄膜中多相共存;薄膜晶粒細?。ǎ保叮睿碜笥遥?;同時(shí)還發(fā)現,在一定工作壓力下,隨著(zhù)氮分壓的提高,氮化物晶粒形成的取向改變,即平行于基體表面生長(cháng)的晶面會(huì )有改變。

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