化學(xué)組分上的均勻性： 就是說(shuō)在薄膜中，化合物的原子組分會(huì )由于尺度過(guò)小而很容易的產(chǎn)生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過(guò)程不科學(xué)，那么實(shí)際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學(xué)成分，這也是真空鍍膜的技術(shù)含量所在。 具體因素也在下面給出。

多功用磁控濺射鍍膜系統，由真空鍍膜系統和手套箱系統集成而成，可在高真空蒸鍍腔室中完結薄膜蒸鍍，并在手套箱高純惰性氣體氣氛下進(jìn)行樣品的寄存、制備以及蒸鍍后樣品的檢測。蒸騰鍍膜與手套箱組合，實(shí)現蒸鍍、封裝、測驗等工藝全封閉制造，使整個(gè)薄膜生長(cháng)和器材制備過(guò)程高度集成在一個(gè)完整的可控環(huán)境氣氛的系統中，消除有機大面積電路制備過(guò)程中大氣環(huán)境中不穩定因素影響，保障了高功用、大面積有機光電器材和電路的制備。

真空鍍膜機應在真空過(guò)程前對真空材料進(jìn)行清洗，去除工件或系統材料表面的污染物;車(chē)燈鍍膜機零部件表面的清潔也是很有必要的，因為污染物引起的氣體和蒸氣源不僅會(huì )使真空系統無(wú)法獲得所需的真空度。而且由于污染物的存在，還會(huì )影響真空部件連接處的強度和密封性能。

真空鍍膜機的污染物可以定義為“任何一種無(wú)用的物質(zhì)或能量”。多弧離子鍍膜機根據污染物的物理狀態(tài)可分為固態(tài)、氣態(tài)和液態(tài)，污染物以薄膜或顆粒的形式存在。就其化學(xué)特性而言，它可以是離子態(tài)或共價(jià)態(tài)，無(wú)機態(tài)或有機態(tài)。

前期清洗真空鍍膜機可以減少很多麻煩，避免濺射鍍膜機的很多小問(wèn)題，對真空鍍膜機的工作效率和鍍膜質(zhì)量有非常積極的作用。它可以大大提高真空系統中所有壁面和其他部件表面在各種工況下的工作穩定性。這些工作條件包括:高溫、低溫以及電子、離子、光子或重粒子的發(fā)射和轟擊。

檢查泄漏情況是真空鍍鈦機真空度的一種檢查方法，簡(jiǎn)稱(chēng)檢漏。真空的凹凸度直接影響鍍膜的作用，因此檢漏是的。通常情況下，真空室的漏氣是由腔壁上的一些孔或元件前的薄接頭引起的。抽氣系統抽氣時(shí)，真空室內壓力降低。內外壓差使氣體從外部高壓流向低壓真空室，造成真空度降低。