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真空均質(zhì)乳化機是集混合、分散、均質(zhì)、乳化及吸粉多功能于一體的成套系統，帶有電控系統，也可配合外圍油、水相罐，真空，加熱/冷卻系統等使用。是生產(chǎn)藥用軟膏、膏霜、乳液等的設備。
砂磨機目前物料適應性廣、為、的研磨設備，研磨腔為狹窄，撥桿間隙小，研磨能量密集，配合的冷卻系統和自動(dòng)控制系統，可實(shí)現物料連續加工連續出料，的提高了生產(chǎn)效率。
研磨介質(zhì)填充率從40%增加至75%時(shí)，運行電流曲線(xiàn)呈上升趨勢，反映砂磨機中的研磨介質(zhì)得到充分攪動(dòng)，能量需求變化大；填充率在75%-85%，運行電流曲線(xiàn)變化平穩，反映砂磨機中的介質(zhì)達到一個(gè)平衡點(diǎn)，能量需求穩定；填充率大于85%，運行電流曲線(xiàn)變化呈下降趨勢，反映砂磨機中的研磨介質(zhì)過(guò)量，研磨介質(zhì)與分散盤(pán)之間有滑動(dòng)現象，分散盤(pán)不能帶動(dòng)所有研磨介質(zhì)運動(dòng)，能量需求降低。因此，根據砂磨機的電流變化曲線(xiàn)可知，研磨介質(zhì)適宜的填充率為80%。[1]
