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研究表明,影響氮化鉭薄膜結合力的主要因素為濺射壓力和加熱溫度,氮分壓比、濺射電流為次要因素;氮分壓對氮化鉭薄膜的硬度影響較大
利用磁控反應濺射技術(shù)制備了氮化鉭薄膜,利用TEM、XRD技術(shù)研究了薄膜的微觀(guān)結構。研究結果表明:薄膜中多相共存;薄膜晶粒細?。ǎ保叮睿碜笥遥?;同時(shí)還發(fā)現,在一定工作壓力下,隨著(zhù)氮分壓的提高,氮化物晶粒形成的取向改變,即平行于基體表面生長(cháng)的晶面會(huì )有改變。
【中文名稱(chēng)】五氧化二鉭
【英文名稱(chēng)】tantalic oxide; tantalum pentoxide
【結構或分子式】 Ta2O5
【分子量】 441.89
【密度】8.2g/cm3
【熔點(diǎn)(℃)】1800
【性狀】
白色斜方晶體,菱形柱狀體。
【溶解情況】
溶于熔融硫酸氫鉀和氫氟酸,不溶于水和其他酸。
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