鍍膜設備應該在高真空下工作，真空值的優(yōu)劣可以直接危害表層的鍍膜的質(zhì)量。有時(shí)鍍膜設備的真空值抽不出來(lái)或是真空值不太好，可能是連接頭松脫或是有焊接發(fā)生脫焊。傳統式的氣密性試驗方式應該鍍膜設備關(guān)機，充氮，再在猜測有漏的位置涂上肥皂泡，整個(gè)過(guò)程用時(shí)費事極易錯判，針對微小的泄露沒(méi)法檢驗。諾益氦質(zhì)譜檢漏儀運用氦氣做為示蹤氣體，小漏率低于5E-13Pam3/s，安全環(huán)保，檢漏時(shí)無(wú)需關(guān)機，立即在機械泵的旁通連接測漏儀便可以迅速有效的進(jìn)行檢驗了。

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真空鍍膜機的工作原理如下：
在鍍膜領(lǐng)域，鍍膜后薄膜樣品的厚度是影響薄膜性能的一個(gè)重要因素。因此，當評價(jià)某薄膜樣品的性能時(shí)，需要檢測該薄膜樣品不同厚度下的性能。對于真空鍍膜的情形，這往往需要進(jìn)行多次試樣的制備。而這樣多次制備樣品存在兩個(gè)問(wèn)題：，不同次生長(cháng)的樣品，儀器的狀態(tài)不同，以至于影響薄膜樣品性能的因素可能不僅僅是厚度；其次，真空鍍膜實(shí)驗裝取樣品需要重新進(jìn)行真空的獲得，非常耗時(shí)。增加了生產(chǎn)和檢測的成本。
因此，提供一種多功能磁控濺射鍍膜系統，本系統由真空鍍膜系統和手套箱系統集成而成，可在高真空蒸鍍腔室中完成薄膜蒸鍍，并在手套箱高純惰性氣體氛圍下進(jìn)行樣品的存放、制備以及蒸鍍后樣品的檢測。蒸發(fā)鍍膜與手套箱組合，實(shí)現蒸鍍、封裝、測試等工藝全封閉制作，使整個(gè)薄膜生長(cháng)和器件制備過(guò)程高度集成在一個(gè)完整的可控環(huán)境氛圍的系統中，消除有機大面積電路制備過(guò)程中大氣環(huán)境中不穩定因素影響，保障了、大面積有機光電器件和電路的制備。

真空鍍膜設備應用十分廣泛，如今在我們的生活中到處可見(jiàn)，是的一項技術(shù)。但是真空鍍膜設備在使用一段時(shí)間后，表面就會(huì )留下灰塵影響真空鍍膜的整體效果。

真空鍍膜工藝在傳感器方面的運用在傳感器中，多選用那些電氣性質(zhì)相關(guān)于物理量、化學(xué)量及其變化來(lái)說(shuō)，極為敏感的半導體資料。此外，其中大多數運用的是半導體的外表、界面的性質(zhì)，需求盡量增大其面積，且能工業(yè)化、低報價(jià)制造、因而選用薄膜的狀況許多。

主要由真空鍍膜機室、真空抽氣機組及電柜（控制電柜、電子槍電柜）組成，其廣泛應用于微電子、光學(xué)成膜、民用裝飾、表面工程等領(lǐng)域。
光學(xué)鍍膜設備工作原理是在高真空狀態(tài)下、利用電子束對金屬或非金屬材料加熱到適當的溫度，材料受熱后蒸發(fā)成蒸汽分子。它的平均自由程比蒸發(fā)源至被蒸發(fā)基片距離大，蒸發(fā)出來(lái)的蒸汽分子向四處直射，碰到基片就沉積在基片表面形成膜層。
維護與保養主要包換電子槍安裝與維護、光路的檢修與維護、設備的清洗與保養。