真空均質(zhì)乳化機是集混合、分散、均質(zhì)、乳化及吸粉多功能于一體的成套系統，帶有電控系統，也可配合外圍油、水相罐，真空，加熱/冷卻系統等使用。是生產(chǎn)藥用軟膏、膏霜、乳液等的設備。

在高粘性乳化物，特別是膏霜，軟膏，乳劑類(lèi)產(chǎn)品的制造工藝中，通常成問(wèn)題的是分散相的粒徑大和攪拌時(shí)把空氣混入制品中，粒徑過(guò)大導致乳狀物不穩定，缺少光澤，制品中混入空氣則會(huì )使制品氣泡化，細菌污染，易氧化及外觀(guān)不光滑。針對兩大問(wèn)題，我公司開(kāi)發(fā)出的ZJR系列真空均質(zhì)乳化機組，由均質(zhì)攪拌器，中心葉片攪拌，刮壁攪拌各自具有的特點(diǎn)相輔相成，組合成佳的攪拌方式，以達到混合制品。采用抽真空的方式，使所生產(chǎn)的制品在攪拌過(guò)程中不再混入氣泡，從而可制造出富有光澤，細膩及延展性良好的產(chǎn)品。

砂磨機目前物料適應性廣、為、的研磨設備，研磨腔為狹窄，撥桿間隙小，研磨能量密集，配合的冷卻系統和自動(dòng)控制系統，可實(shí)現物料連續加工連續出料，的提高了生產(chǎn)效率。

分散盤(pán)帶動(dòng)研磨介質(zhì)高速運動(dòng)而產(chǎn)生摩擦和剪切，使物料得到研磨和分散。研磨室采用強制冷卻。有臥式砂磨機及立式砂磨機之分，如圓筒形環(huán)隙式砂磨機和塔式砂磨機等。一般為濕式研磨。物料在旋轉研磨盤(pán)作用下與研磨體混合并旋轉，經(jīng)與研磨體之間及與粉碎室各部分之間產(chǎn)生的研磨、剪切而粉碎。有臥式砂磨機及立式砂磨機之分，如圓筒形環(huán)隙式砂磨機和塔式砂磨機等。一般為濕式研磨。

運行電流是砂磨機運轉情況的主要考察指標。主電機提供能量輸人，分散盤(pán)充分攪動(dòng)研磨介質(zhì)和漿料，為其提供動(dòng)能，使漿料充分分散研磨，達到要求的研磨效果。在實(shí)際運作過(guò)程中，砂磨機的運行電流與研磨介質(zhì)和研磨料漿的質(zhì)量成正比，要砂磨機的運行電流穩定，就確定合理的介質(zhì)充填率、入料量和料漿黏度。
研磨介質(zhì)填充率從40%增加至75%時(shí)，運行電流曲線(xiàn)呈上升趨勢，反映砂磨機中的研磨介質(zhì)得到充分攪動(dòng)，能量需求變化大；填充率在75%-85%，運行電流曲線(xiàn)變化平穩，反映砂磨機中的介質(zhì)達到一個(gè)平衡點(diǎn)，能量需求穩定；填充率大于85%，運行電流曲線(xiàn)變化呈下降趨勢，反映砂磨機中的研磨介質(zhì)過(guò)量，研磨介質(zhì)與分散盤(pán)之間有滑動(dòng)現象，分散盤(pán)不能帶動(dòng)所有研磨介質(zhì)運動(dòng)，能量需求降低。因此，根據砂磨機的電流變化曲線(xiàn)可知，研磨介質(zhì)適宜的填充率為80%。[1]