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內置電機，工作時(shí)噪音極底大容量錐型研磨腔體設計更適用于大批量的中,高粘度產(chǎn)品的分散及超細研磨。錐型腔體內研磨珠隨反射角的改變,加強了研磨珠的往返運動(dòng)，使研磨細度更均勻。采用定子、轉子及前端板冷卻,更高的擴大冷卻面積,適合物料溫度敏感的產(chǎn)品;特殊的分離結構,可選用較細小的研磨珠;研磨腔內和物料接觸的零部件材質(zhì)均采用特殊高耐磨材質(zhì)?？蛇x配全自動(dòng)控制系統，監控整個(gè)研磨過(guò)程，即時(shí)顯示各項參數
以達到外表平坦，使分散在液體中的固體粒子微?；?。增加反射率，發(fā)生光澤并提高遮蓋率，如油漆，油墨，色膏等。 以提高反應速率及均勻程度，使液體中懸浮之粒子表面積增加。如在樹(shù)脂中添加粒狀之硬化劑，或化學(xué)反應中粉粒狀之原料。 延長(cháng)沉淀時(shí)間，懸浮在液體中之微小粒子，達到臨時(shí)懸浮之目的，如水懸性農藥，可增加散布面積延長(cháng)藥效，或果汁如芭藥汁等。
研磨介質(zhì)填充率從40%增加至75%時(shí)，運行電流曲線(xiàn)呈上升趨勢，反映砂磨機中的研磨介質(zhì)得到充分攪動(dòng)，能量需求變化大；填充率在75%-85%，運行電流曲線(xiàn)變化平穩，反映砂磨機中的介質(zhì)達到一個(gè)平衡點(diǎn)，能量需求穩定；填充率大于85%，運行電流曲線(xiàn)變化呈下降趨勢，反映砂磨機中的研磨介質(zhì)過(guò)量，研磨介質(zhì)與分散盤(pán)之間有滑動(dòng)現象，分散盤(pán)不能帶動(dòng)所有研磨介質(zhì)運動(dòng)，能量需求降低。因此，根據砂磨機的電流變化曲線(xiàn)可知，研磨介質(zhì)適宜的填充率為80%。[1]
