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回收真空鍍膜機生產(chǎn)線(xiàn)設備 |
面向地區 |
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真空鍍膜機具有高真空度、高沉積速率、均勻性好等優(yōu)點(diǎn)，可以在不同材料和形狀的物體上進(jìn)行鍍膜。它在電子、光學(xué)、材料等領(lǐng)域有廣泛的應用，如光學(xué)鍍膜、金屬鍍膜、硬質(zhì)涂層等。
真空鍍膜機通常由真空腔體、加熱系統、蒸發(fā)源、濺射源、離子源、氣體控制系統和控制系統等組成。在真空腔體中，通過(guò)抽氣系統將氣體抽走，形成高真空環(huán)境。加熱系統用于提供蒸發(fā)源或濺射源所需的熱能，使材料蒸發(fā)或濺射到
蒸發(fā)源是將材料加熱至其熔點(diǎn)或沸點(diǎn)，使其蒸發(fā)到基材上形成薄膜的裝置。濺射源則是通過(guò)在材料表面轟擊高能粒子，使其濺射出來(lái)，并沉積在基材上。離子源則通過(guò)離子轟擊基材表面，使其表面活化并提高薄膜質(zhì)量。
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