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利用磁控反應濺射技術(shù)制備氮化鉭薄膜，對磁控反應濺射制備氮化鉭薄膜的工藝參數（包括氮分壓比、加熱溫度、濺射壓力、濺射電流）用正交設計進(jìn)行優(yōu)化
氮化鉭為黑色六方結晶。相對密度為13.4，熔點(diǎn)為3090℃，顯微硬度為1100kg/mm2，熱導率為9.54W/(m·K)，電阻率為128μΩ·cm
生產(chǎn)晶書(shū)鉭的原料。也用于電子工業(yè)。供拉鉭酸鋰單晶和制造高折射低色散特種光學(xué)玻璃用,化工中可作催化劑。
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