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隨著(zhù)鍍膜技術(shù)的快速增長(cháng)，各種類(lèi)型的真空鍍膜設備生產(chǎn)線(xiàn)也開(kāi)始逐漸出現。但是論起薄膜的均勻性，恐怕所有的真空設備鍍制的薄膜的均勻性都會(huì )受到某種因素影響，現在我們就濺控濺射鍍膜機來(lái)看看造成不均勻的因素有哪些。
PVD鍍膜涂層工藝中效果好的為離子鍍膜方式；此方法是利用電弧撞擊靶材，使靶材原子被激發(fā)出來(lái)，與反應性氣體反應，形成化合物沉積于工件表面的一種技術(shù)。爐內運行至高真空后，通入惰性氣體，加偏壓造成氬離子(Ar+)，及帶負電的電子(e-)，帶正電的氬離子會(huì )撞向通入偏壓為負極的基板底材，來(lái)清潔工件表面；之后再通入反應氣體，在靶材和基板底材間產(chǎn)生電漿，進(jìn)行鍍膜作業(yè)。此一方式成膜速度快、密著(zhù)性較佳，多用于切削刀具鍍膜涂層處理。
一般濕式鍍層所制作之鍍膜會(huì )在表面覆蓋成一個(gè)薄膜層 ，不論底材之原先形狀為何，表面所呈現出來(lái)的薄膜層都會(huì )趨于平坦。PVD 鍍層會(huì )依底材形狀平均在上方形成一個(gè)鍍膜層，依底材高低形狀有所不同，經(jīng)鍍膜后的高低形狀也是依照原先底材之態(tài)樣。
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