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深圳GSI鉭鈮礦檢測技術(shù)有限公司擁有大型的實(shí)驗室，配備精良的測試儀器，與華南地區各實(shí)驗室存在廣泛的合作關(guān)系。我們致力于以能力為客戶(hù)搭建一條、快速、優(yōu)惠的檢測認證通道；幫助客戶(hù)減少開(kāi)發(fā)風(fēng)險、縮短產(chǎn)品研發(fā)周期、降低產(chǎn)品成本；及時(shí)獲得各國市場(chǎng)的準入證。
一定工作壓力下，制備的氮化鉭薄膜硬度高達４０００ｋｇ／ｍｍ２以上。本文探討了氮化鉭薄膜高硬度的原因，并且討論了隨氮分壓的提高薄膜織構變化的原因
利用磁控反應濺射技術(shù)制備氮化鉭薄膜，對磁控反應濺射制備氮化鉭薄膜的工藝參數（包括氮分壓比、加熱溫度、濺射壓力、濺射電流）用正交設計進(jìn)行優(yōu)化
氮化鉭為黑色六方結晶。相對密度為13.4，熔點(diǎn)為3090℃，顯微硬度為1100kg/mm2，熱導率為9.54W/(m·K)，電阻率為128μΩ·cm
氮化鉭貯存
1、通常對水是不危害的，若無(wú)許可，勿將材料排入周?chē)h(huán)境。
2、常溫常壓下穩定避免的物料 氧化物。
3、常溫密閉，陰涼通風(fēng)干燥處
氮化鉭靶材----氮化鉭（Tantalum mononitride）是一種化工材料，分子式為T(mén)aN，分子量為194.95。
用來(lái)制造片狀電阻的材料，氮化鉭電阻則可抵抗水汽的侵蝕。 在制造集成電路的過(guò)程中，這些膜沉積在硅晶片的頂部，以形成薄膜表面貼裝電阻
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