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真空鍍膜機詳細鍍膜方法如下：
1、檢查真空鍍膜設備各操作控制開(kāi)關(guān)是否在"關(guān)"位置。
2、打開(kāi)總電源開(kāi)關(guān)，真空鍍膜設備送電。
3、低壓閥拉出。開(kāi)充氣閥，聽(tīng)不到氣流聲后，啟動(dòng)升鐘罩閥，鐘罩升起。
4、安裝固定鎢螺旋加熱子。把PVDF薄膜和鋁蓋板固定在轉動(dòng)圓盤(pán)上。把鋁絲穿放在螺旋加熱子內。清理鐘罩內各部位，無(wú)雜質(zhì)污物。
5、落下鐘罩。
6、啟動(dòng)真空鍍膜設備抽真空機械泵。
7、開(kāi)復合真空計電源。
1）左旋鈕“1”順時(shí)針旋轉至指向2區段的加熱位置。
2）低真空表“2”內指針順時(shí)針移動(dòng)，當指針移動(dòng)至110mA時(shí)，左旋鈕"1"旋轉至指向2區段測量位置。
8、當低真空表“2”內指針再次順時(shí)針移動(dòng)至6.7Pa時(shí)，低壓閥推入。這時(shí)左旋鈕“1”旋轉至指向1區段測量位置。
9、真空鍍膜設備開(kāi)通冷卻水，啟動(dòng)擴散泵，加熱40min。
10、低壓閥拉出。重復一次⑦動(dòng)作程序：左下旋鈕“1”轉至指向2區段測量位置。低真空表“2”內指針順時(shí)針移動(dòng)，當指針移動(dòng)至6.7Pa時(shí)，開(kāi)高壓閥。
鍍膜機工藝在集成電路制造中的運用，鍍膜機晶體管路中的保護層（SiO2、Si3N4）、電極管線(xiàn)（多晶硅、鋁、銅及其合金）等多是選用CVD技能、PVCD技能、真空蒸騰金屬技能、磁控濺射技能和射頻濺射技能?？梢?jiàn)氣相堆積術(shù)制備集成電路的核心技能之一。
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