分散盤(pán)帶動(dòng)研磨介質(zhì)高速運動(dòng)而產(chǎn)生摩擦和剪切，使物料得到研磨和分散。研磨室采用強制冷卻。有臥式砂磨機及立式砂磨機之分，如圓筒形環(huán)隙式砂磨機和塔式砂磨機等。一般為濕式研磨。物料在旋轉研磨盤(pán)作用下與研磨體混合并旋轉，經(jīng)與研磨體之間及與粉碎室各部分之間產(chǎn)生的研磨、剪切而粉碎。有臥式砂磨機及立式砂磨機之分，如圓筒形環(huán)隙式砂磨機和塔式砂磨機等。一般為濕式研磨。

臥式砂磨機筒體內的旋轉主軸上裝有多層圓盤(pán)。當主軸轉動(dòng)時(shí)，研磨介質(zhì)在旋轉圓盤(pán) 的帶動(dòng)下研磨壓入筒內的漿料,使其中的固體物料細化合格的漿料穿過(guò)小于研磨介質(zhì)粒度的過(guò)濾間隙或篩孔流出。筒體部分備有冷卻或加熱裝置，以防筒內因物料、研磨介質(zhì)和圓盤(pán)等相互摩擦所產(chǎn)生的大量的熱影響產(chǎn)品質(zhì)量，或因送入的漿料冷凝以致流動(dòng)性降低而影響研磨效能。研磨介質(zhì)可用適當的天然砂，也可用粒度為0.1～2毫米的人造玻璃珠，目前國內外砂磨機均已使用氧化鋯珠充當研磨介質(zhì)，氧化鋯珠本身易清潔，硬度高，比玻璃珠及天然沙更耐磨，所以目前國內高低檔砂磨機均使用氧化鋯珠作為研磨介質(zhì)。當給料粒度小于450微米時(shí),排料粒度可達1微米以下。這種磨機在細化物料的同時(shí),還有分散和混合作用，適于磨制染料、顏料、油漆涂料、藥物和其他懸浮液或膠懸劑等。

研磨介質(zhì)填充率從40%增加至75%時(shí)，運行電流曲線(xiàn)呈上升趨勢，反映砂磨機中的研磨介質(zhì)得到充分攪動(dòng)，能量需求變化大；填充率在75%-85%，運行電流曲線(xiàn)變化平穩，反映砂磨機中的介質(zhì)達到一個(gè)平衡點(diǎn)，能量需求穩定；填充率大于85%，運行電流曲線(xiàn)變化呈下降趨勢，反映砂磨機中的研磨介質(zhì)過(guò)量，研磨介質(zhì)與分散盤(pán)之間有滑動(dòng)現象，分散盤(pán)不能帶動(dòng)所有研磨介質(zhì)運動(dòng)，能量需求降低。因此，根據砂磨機的電流變化曲線(xiàn)可知，研磨介質(zhì)適宜的填充率為80%。[1]