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干膜曝光顯影是pcb板制造工藝中的一個(gè)重要步驟，該步驟利用曝光和顯影在pcb板上刻畫(huà)幾何圖形結構，隨著(zhù)關(guān)鍵尺寸的不斷縮小，pcb板制造對顯影工藝的要求也越來(lái)越高，顯影工作液重要性隨著(zhù)工藝的進(jìn)步日漸得到重視。
PCB 顯影的原理是利用光敏膠層的化學(xué)反應性質(zhì)。在制作 PCB 的過(guò)程中，需要將電路圖案打印在透明膠片上，然后將透明膠片與光敏膠層貼合在一起，通過(guò)紫外線(xiàn)曝光將電路圖案轉移到光敏膠層上。曝光后，光敏膠層中未曝光的部分仍然是可溶的，而曝光過(guò)的部分則變得不可溶。
顯影液的濃度、溫度和顯影時(shí)間都是非常重要的。如果濃度太高或溫度太高，顯影液會(huì )過(guò)于強烈地溶解光敏膠層，導致電路圖案變形或失真。如果濃度太低或溫度太低，顯影液則無(wú)法有效地溶解未曝光的部分，導致電路圖案不清晰或不完整。因此，顯影液的濃度、溫度和顯影時(shí)間嚴格控制，以確保 PCB 的質(zhì)量和穩定性。
| 主營(yíng)行業(yè)：工廠(chǎng)設備回收 |
| 公司主營(yíng)：高價(jià)回收噴涂設備,回收二手噴涂線(xiàn),自動(dòng)噴油線(xiàn)回收,烤漆線(xiàn)回收 |
| 主營(yíng)地區：深圳東莞廣州惠州 |
| 企業(yè)類(lèi)型：有限責任公司 |
| 公司成立時(shí)間：2014-11-03 |
| 經(jīng)營(yíng)模式：貿易型 |
| 公司郵編：518000 |
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