化學(xué)組分上的均勻性： 就是說(shuō)在薄膜中，化合物的原子組分會(huì )由于尺度過(guò)小而很容易的產(chǎn)生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過(guò)程不科學(xué)，那么實(shí)際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學(xué)成分，這也是真空鍍膜的技術(shù)含量所在。 具體因素也在下面給出。

濺射鍍膜又分為很多種，總體看，與蒸發(fā)鍍膜的不同點(diǎn)在于濺射速率將成為主要參數之一。濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld，組分均勻性容易保持，而原子尺度的厚度均勻性相對較差（因為是脈沖濺射），晶向（外沿）生長(cháng)的控制也比較一般。

多功用磁控濺射鍍膜系統，由真空鍍膜系統和手套箱系統集成而成，可在高真空蒸鍍腔室中完結薄膜蒸鍍，并在手套箱高純惰性氣體氣氛下進(jìn)行樣品的寄存、制備以及蒸鍍后樣品的檢測。蒸騰鍍膜與手套箱組合，實(shí)現蒸鍍、封裝、測驗等工藝全封閉制造，使整個(gè)薄膜生長(cháng)和器材制備過(guò)程高度集成在一個(gè)完整的可控環(huán)境氣氛的系統中，消除有機大面積電路制備過(guò)程中大氣環(huán)境中不穩定因素影響，保障了高功用、大面積有機光電器材和電路的制備。

塑膠具有易成型，價(jià)格便宜，質(zhì)量輕，防腐蝕等長(cháng)處，但塑膠的缺陷也比較，其缺陷也制約了塑膠的應用規模，如不美觀(guān)、易老化、機械功能差、易碎易變型、耐熱差等。經(jīng)過(guò)真空鍍膜機的應用，使塑膠外表鍍上特定膜層，東莞匯成真空自主研制出產(chǎn)的蒸發(fā)真空鍍膜設備將鍍膜機資料和塑膠產(chǎn)呂結合，大大提高了塑膠制品的物理、化學(xué)功能。

暴露在空氣中的真空鍍膜機表面容易受到污染。污染源有很多，初的污染通常是地表本身的一部分。吸附現象、化學(xué)反應、浸出干燥過(guò)程、機械處理、擴散和偏析過(guò)程都增加了各種組分的表面污染物。真空材料表面的常見(jiàn)污染物如下。

　?、儆椭?潤滑劑、切削液、真空油脂等。在加工、組裝和操作過(guò)程中被污染;

　?、谒?lèi):操作時(shí)的手汗、吹氣時(shí)的水蒸氣、唾液等。

　?、郾砻嫜趸?材料長(cháng)時(shí)間放置在空氣中或潮濕空氣中形成的表面氧化物;

　?、芩?、堿、鹽類(lèi)物質(zhì):清洗時(shí)的殘留物質(zhì)、手汗、水中的礦物質(zhì)等。

　?、莪h(huán)境空氣中的拋光殘渣、灰塵和其他有機物等。

前期清洗真空鍍膜機可以減少很多麻煩，避免濺射鍍膜機的很多小問(wèn)題，對真空鍍膜機的工作效率和鍍膜質(zhì)量有非常積極的作用。它可以大大提高真空系統中所有壁面和其他部件表面在各種工況下的工作穩定性。這些工作條件包括:高溫、低溫以及電子、離子、光子或重粒子的發(fā)射和轟擊。