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化學(xué)組分上的均勻性： 就是說(shuō)在薄膜中，化合物的原子組分會(huì )由于尺度過(guò)小而很容易的產(chǎn)生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過(guò)程不科學(xué)，那么實(shí)際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學(xué)成分，這也是真空鍍膜的技術(shù)含量所在。 具體因素也在下面給出。
暴露在空氣中的真空鍍膜機表面容易受到污染。污染源有很多，初的污染通常是地表本身的一部分。吸附現象、化學(xué)反應、浸出干燥過(guò)程、機械處理、擴散和偏析過(guò)程都增加了各種組分的表面污染物。真空材料表面的常見(jiàn)污染物如下。
?、儆椭?潤滑劑、切削液、真空油脂等。在加工、組裝和操作過(guò)程中被污染;
?、谒?lèi):操作時(shí)的手汗、吹氣時(shí)的水蒸氣、唾液等。
?、郾砻嫜趸?材料長(cháng)時(shí)間放置在空氣中或潮濕空氣中形成的表面氧化物;
?、芩?、堿、鹽類(lèi)物質(zhì):清洗時(shí)的殘留物質(zhì)、手汗、水中的礦物質(zhì)等。
?、莪h(huán)境空氣中的拋光殘渣、灰塵和其他有機物等。
前期清洗真空鍍膜機可以減少很多麻煩，避免濺射鍍膜機的很多小問(wèn)題，對真空鍍膜機的工作效率和鍍膜質(zhì)量有非常積極的作用。它可以大大提高真空系統中所有壁面和其他部件表面在各種工況下的工作穩定性。這些工作條件包括:高溫、低溫以及電子、離子、光子或重粒子的發(fā)射和轟擊。
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