金鹽回收中的超細粉末處理技術(shù)
納米級金粉（<100 nm）的特殊處理方法：

1. 防團聚措施
表面修飾：

十二烷基硫醇（DDT）單分子層

PEG-2000空間位阻劑

分散工藝：

超聲破碎（20 kHz, 500 W）

微射流均質(zhì)（壓力2000 bar）

2. 干燥技術(shù)
方法 粒徑變化 比表面保留率
噴霧干燥 +50% 60%
冷凍干燥 +15% 85%
超臨界干燥 +5% 95%
3. 安全防護
爆炸下限：60 g/m3（需惰性氣氛保護）

個(gè)人防護：

正壓式呼吸器

防靜電工作服

應用領(lǐng)域：

導電油墨（粒徑要求20±5 nm）

醫療顯影劑（需無(wú)菌處理）

金鹽回收中的選擇性氯化技術(shù)
選擇性氯化法適用于處理含金電子廢料（如PCB），其核心是通過(guò)控制氯氣濃度和溫度實(shí)現金的揮發(fā)：

反應機理
氯化揮發(fā)：2Au + 3Cl? → 2AuCl?（g）（沸點(diǎn)254°C）

雜質(zhì)抑制：Cu、Fe等生成固態(tài)氯化物殘留

工藝參數優(yōu)化
參數 佳范圍 作用機制
溫度 450-500°C 平衡揮發(fā)速率與能耗
Cl?濃度 30-50 vol% 避免過(guò)量腐蝕設備
載氣流速 0.8-1.2 L/min 確保氣態(tài)AuCl?充分帶出
工業(yè)案例：

日本DOWA的流化床氯化系統：處理含金0.2%的電子廢料，回收率>99%

兩級冷凝設計：200°C（收集AuCl?），二級50°C（捕集Hg/Pb氯化物）

挑戰：

設備需采用哈氏合金C276（耐氯腐蝕）

尾氣需堿洗+活性炭吸附處理

金鹽回收中的選擇性電沉積技術(shù)
選擇性電沉積通過(guò)控制電位實(shí)現多金屬溶液中金的回收：

技術(shù)原理
極化曲線(xiàn)分析：

Au(CN)??還原電位：-0.6 V vs SHE

Cu(CN)?2?還原電位：-1.1 V vs SHE

電位窗口控制：

工作電位-0.7至-0.9 V（抑制銅共沉積）

脈沖電位（正向-0.65 V，反向-0.3 V）

電極系統設計
組件 規格要求 功能特點(diǎn)
陰極 三維多孔碳（比表面積800 m2/g） 增大沉積面積，降低局部電流密度
陽(yáng)極 鈦基混合金屬氧化物（MMO） 氧析出過(guò)電位高（>1.2 V）
隔膜 陰離子交換膜（DF-120） 阻止Cu(CN)?2?遷移
工藝指標：

電流效率：92-95%

金純度：99.99%（Cu<5 ppm）

能耗：0.5 kWh/g Au

工業(yè)案例：

加拿大Mint電解廠(chǎng)采用此技術(shù)處理含Cu 20 g/L的廢液，金回收率99.3%

金鹽回收中的飛秒激光解離技術(shù)
超快激光（脈寬100 fs）選擇性剝離電子廢料中的金層：

工藝參數
參數 設定值 物理效應
波長(cháng) 515 nm 金吸收系數達10? cm?1
能量密度 0.5 J/cm2 超過(guò)金燒蝕閾值（0.3 J/cm2）
重復頻率 100 kHz 平衡效率與熱影響區
加工效果
剝離精度：±2 μm（可保留底層基材完整性）

金純度：99.9%（無(wú)銅、鎳等基材混入）

速率：處理手機主板達5 cm2/s

技術(shù)優(yōu)勢：

非接觸式加工避免機械應力

廢氣僅需簡(jiǎn)單過(guò)濾（無(wú)化學(xué)溶劑揮發(fā)）

設備成本：飛秒激光系統約$0.5M/臺，適合高值廢料處理

金鹽回收吸附材料與技術(shù)
新型吸附劑性能對比：

活性炭類(lèi)

椰殼炭：孔徑2-5nm，吸附量12kg/t

煤質(zhì)炭：機械強度>95%，適用CIP工藝

離子交換樹(shù)脂

強堿性201×7：交換容量1.8mmol/g

螯合型IRC-718：選擇性系數Au/Cu=1500

功能化材料

硫醇改性SiO?：吸附速率常數k=0.12min?1

石墨烯氣凝膠：比表面積650m2/g，吸附量35kg/t

工業(yè)案例：

南非AngloGold的樹(shù)脂廠(chǎng)：處理量2000m3/d，尾液<0.01mg/L

動(dòng)態(tài)吸附柱設計：徑高比1:4，空塔流速8BV/h

金鹽回收濕法冶金回收技術(shù)
濕法工藝適合低濃度金鹽回收，核心步驟包括：

浸出系統

氰化浸出：NaCN濃度0.1-0.5%，pH10.5-11.5，DO>6mg/L

非氰浸出：硫脲（CS(NH?)?）體系，濃度1-2%，Fe3?作氧化劑

固液分離

板框過(guò)濾：精度1μm，處理量2-5m3/h

離心分離：3000rpm，固相含金<0.1g/t

富集提純

活性炭吸附：CIL工藝，金負載量8-15kg/t炭

溶劑萃?。杭谆惗』∕IBK）萃取率>99%

還原沉淀

鋅粉置換：Zn/Au比3:1，反應時(shí)間30min

草酸還原：pH1.5-2.0，溫度80-90℃

經(jīng)濟性對比：

方法 成本(USD/kg Au) 回收率 適用濃度
氰化 850-1200 98% >1g/t
硫脲 1500-1800 95% 0.1-1g/t
樹(shù)脂 2000-2500 92% <0.1g/t