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蝕刻（etching）又稱(chēng)為光化學(xué)蝕刻，是把材料使用化學(xué)反應或物理撞擊作用而移除的技術(shù)，可分為濕蝕刻（wet etching）和干蝕刻（dry etching）兩種類(lèi)型。通常所指蝕刻也稱(chēng)光化學(xué)蝕刻（photochemical etching），指通過(guò)曝光制版、顯影后，將要蝕刻區域的保護膜去除，在蝕刻時(shí)接觸化學(xué)溶液，達到溶解腐蝕的作用，形成凹凸或者鏤空成型的效果。
蝕刻工藝
曝光法：工程根據圖形開(kāi)出備料尺寸-材料準備-材料清洗-烘干→貼膜或涂布→烘干→曝光→ 顯影→烘干-蝕刻→脫膜→OK
網(wǎng)印法：開(kāi)料→清洗板材(不銹鋼其它金屬材料)→絲網(wǎng)印→蝕刻→脫膜→OK
銅對水的污染是印制電路生產(chǎn)中普遍存在的問(wèn)題，氨堿蝕刻液的使用更加重了這個(gè)問(wèn)題。因為銅與氨絡(luò )合，不容易用離子交換法或堿沉淀法除去。所以，采用第二次噴淋操作的方法，用無(wú)銅的添加液來(lái)漂洗板子，大大地減少銅的排出量。然后，再用空氣刀在水漂洗之前將板面上多余的溶液除去，從而減輕了水對銅和蝕刻的鹽類(lèi)的漂洗負擔。
蝕刻網(wǎng)是通過(guò)對金屬板材進(jìn)行蝕刻加工，形成的鏤空網(wǎng)。傳統的蝕刻加工方法采用的是腐蝕性液體或采用激光雕刻的手段。加工而成的蝕刻網(wǎng)常用于集成電路印刷、熒光屏電子格柵，過(guò)濾，微電極元件等。
在純蝕刻中，金屬(通常是銅、鋅或鋼)板上覆蓋著(zhù)一層耐酸的蠟狀底層。然后，藝術(shù)家用一根尖銳的蝕刻針在地面上刮掉他/她希望成品中出現的線(xiàn)條，從而露出裸露的金屬。然后將盤(pán)子浸入酸浴中。酸“侵蝕”暴露在外的金屬，留下沉入金屬板的線(xiàn)條。然后將剩余的地面從盤(pán)子上清理掉。印版上涂滿(mǎn)墨水，然后擦去表面的墨水，只留下蝕刻線(xiàn)條上的墨水。
蝕刻加工能夠用于在金屬、塑料、玻璃等材料表面制作出文字和圖案。這一過(guò)程也被稱(chēng)為蝕刻加工。蝕刻技術(shù)被廣泛應用在制作標識、商標、圖案等。通過(guò)選擇合適的蝕刻劑和工藝參數，還能實(shí)現對材料表面的保護和加工，使其具有更強的耐腐蝕性、耐磨損性等特性。
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