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化學(xué)組分上的均勻性: 就是說(shuō)在薄膜中,化合物的原子組分會(huì )由于尺度過(guò)小而很容易的產(chǎn)生不均勻特性,SiTiO3薄膜,如果鍍膜過(guò)程不科學(xué),那么實(shí)際表面的組分并不是SiTiO3,而可能是其他的比例,鍍的膜并非是想要的膜的化學(xué)成分,這也是真空鍍膜的技術(shù)含量所在。 具體因素也在下面給出。
關(guān)于真空鍍膜機所用的塑料材料,需要與膜層結合性高,放氣量小,受熱穩定,一起滿(mǎn)意這三個(gè)條件的塑料資料是十分少的,但塑料資料在工業(yè)出產(chǎn)中的應用卻十分廣泛,所以塑料真空鍍膜機的應用也隨之發(fā)展起來(lái),為了使更多的塑料投入到真空鍍膜中,常常經(jīng)過(guò)各種方法改善。
與傳統的鍍膜方法相比,真空鍍膜屬于干法鍍膜,其主要方法有以下幾種:
1.真空蒸發(fā)
其原理是在真空條件下,用蒸發(fā)器加熱蒸發(fā)材料使其蒸發(fā)或升華,蒸發(fā)的離子流直接射向基片,在基片上沉積固體薄膜。
2.濺射涂層
濺射鍍膜是一種真空條件,在陰極施加2000V高壓激發(fā)輝光放電,帶正電的氬離子撞擊陰極噴出原子。濺射的原子通過(guò)惰性氣氛沉積在襯底上形成薄膜。17_副本.jpg
3.離子電鍍法
即干式螺桿真空泵制造商已經(jīng)推出的真空離子涂層。它是在上述兩種真空鍍膜技術(shù)的基礎上發(fā)展起來(lái)的,所以具有兩者的工藝特點(diǎn)。在真空條件下,工作氣體或蒸發(fā)物質(zhì)(膜材料)通過(guò)氣體放電被部分電離,蒸發(fā)物質(zhì)或其反應物在離子轟擊下沉積在基片表面。在成膜的過(guò)程中,襯底總是受到高能粒子的轟擊,這使得它非常干凈。
4.真空卷繞涂層
真空鍍膜是通過(guò)物理氣相沉積在柔性基板上進(jìn)行連續鍍膜的技術(shù),以實(shí)現柔性基板的某些功能性和裝飾性。
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主營(yíng)地區:深圳東莞廣州惠州 |
企業(yè)類(lèi)型:有限責任公司 |
公司成立時(shí)間:2014-11-03 |
經(jīng)營(yíng)模式:貿易型 |
公司郵編:518000 |
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