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隨著(zhù)鍍膜技術(shù)的快速增長(cháng)，各種類(lèi)型的真空鍍膜設備生產(chǎn)線(xiàn)也開(kāi)始逐漸出現。但是論起薄膜的均勻性，恐怕所有的真空設備鍍制的薄膜的均勻性都會(huì )受到某種因素影響，現在我們就濺控濺射鍍膜機來(lái)看看造成不均勻的因素有哪些。
金屬在真空中加熱時(shí)會(huì )變成氣體而蒸發(fā)，真空蒸發(fā)就是利用此原理。處理時(shí)多在10-5Torr以下的真空中進(jìn)行，金屬及各種化合物都可當作被附著(zhù)物質(zhì)，其應用例有鏡片、反射鏡、塑膠零件等；但是以金屬表面硬化為目的的用途則很少，主要多用于裝飾性物件。
一般濕式鍍層所制作之鍍膜會(huì )在表面覆蓋成一個(gè)薄膜層 ，不論底材之原先形狀為何，表面所呈現出來(lái)的薄膜層都會(huì )趨于平坦。PVD 鍍層會(huì )依底材形狀平均在上方形成一個(gè)鍍膜層，依底材高低形狀有所不同，經(jīng)鍍膜后的高低形狀也是依照原先底材之態(tài)樣。
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