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蝕刻(etching)又稱(chēng)為光化學(xué)蝕刻,是把材料使用化學(xué)反應或物理撞擊作用而移除的技術(shù),可分為濕蝕刻(wet etching)和干蝕刻(dry etching)兩種類(lèi)型。通常所指蝕刻也稱(chēng)光化學(xué)蝕刻(photochemical etching),指通過(guò)曝光制版、顯影后,將要蝕刻區域的保護膜去除,在蝕刻時(shí)接觸化學(xué)溶液,達到溶解腐蝕的作用,形成凹凸或者鏤空成型的效果。
蝕刻工藝
曝光法:工程根據圖形開(kāi)出備料尺寸-材料準備-材料清洗-烘干→貼膜或涂布→烘干→曝光→ 顯影→烘干-蝕刻→脫膜→OK
網(wǎng)印法:開(kāi)料→清洗板材(不銹鋼其它金屬材料)→絲網(wǎng)印→蝕刻→脫膜→OK
銅對水的污染是印制電路生產(chǎn)中普遍存在的問(wèn)題,氨堿蝕刻液的使用更加重了這個(gè)問(wèn)題。因為銅與氨絡(luò )合,不容易用離子交換法或堿沉淀法除去。所以,采用第二次噴淋操作的方法,用無(wú)銅的添加液來(lái)漂洗板子,大大地減少銅的排出量。然后,再用空氣刀在水漂洗之前將板面上多余的溶液除去,從而減輕了水對銅和蝕刻的鹽類(lèi)的漂洗負擔。
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