鍍膜設備應該在高真空下工作，真空值的優(yōu)劣可以直接危害表層的鍍膜的質(zhì)量。有時(shí)鍍膜設備的真空值抽不出來(lái)或是真空值不太好，可能是連接頭松脫或是有焊接發(fā)生脫焊。傳統式的氣密性試驗方式應該鍍膜設備關(guān)機，充氮，再在猜測有漏的位置涂上肥皂泡，整個(gè)過(guò)程用時(shí)費事極易錯判，針對微小的泄露沒(méi)法檢驗。諾益氦質(zhì)譜檢漏儀運用氦氣做為示蹤氣體，小漏率低于5E-13Pam3/s，安全環(huán)保，檢漏時(shí)無(wú)需關(guān)機，立即在機械泵的旁通連接測漏儀便可以迅速有效的進(jìn)行檢驗了。

對比幾個(gè)真空鍍膜機的檢漏方法：
氦質(zhì)譜檢漏該工藝是真空鍍膜機真空檢漏技術(shù)里不可缺少的一種技術(shù)，因為檢漏率，簡(jiǎn)單易使用，儀器設備反映靈敏，，不容易受別的氣體的影響，在檢漏中獲得了廣泛運用。氦質(zhì)譜檢漏儀是依據質(zhì)譜學(xué)基本原理，用氮氣作示漏氣體做成的氣密性檢測儀器。由離子源、解析器、回收器、冷陰極水解規構成的質(zhì)譜分析室和吸氣系統及電氣一部分等構成。質(zhì)譜分析室里的鎢絲發(fā)送出去的電子，在房間內不停地震蕩，并與房間內空氣和經(jīng)漏孔進(jìn)入到屋內的氦氣互相撞擊使其水解成共價(jià)鍵，這種氦離子在加快靜電場(chǎng)的作用下進(jìn)入到磁場(chǎng)，因為洛倫茲力作用產(chǎn)生偏轉，產(chǎn)生圓弧狀軌道，更改加速電壓可使不一樣品質(zhì)的離子通過(guò)磁場(chǎng)和接受縫抵達接收極而被檢驗。噴氦法、吸氦法是氦質(zhì)譜檢漏儀在檢漏中經(jīng)常使用的這兩種方式。采用真空法檢漏，鍍膜機不需要停機，直接在真空泵的旁路利用波紋管接入檢漏儀，在懷疑有漏的地方噴氦氣，即可完成檢漏。

蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來(lái)。并且沉降在基片表面，通過(guò)成膜過(guò)程（散點(diǎn)－島狀結構-迷走結構-層狀生長(cháng)）形成薄膜。 對于濺射類(lèi)鍍膜，可以簡(jiǎn)單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來(lái)，并且終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過(guò)程，終形成薄膜。

真空鍍膜機為什么會(huì )越來(lái)越慢這種情況有兩種可能
1、設備內部由于長(cháng)時(shí)間鍍膜導致有些臟東西在加熱時(shí)放氣，所以這種情況需要維護，即把內部屏蔽板拆下噴砂或脫膜，清理。
2、由微小的滲漏，沒(méi)有發(fā)現，尤其是各個(gè)傳動(dòng)部位密封，這種情況就是比較難查，如果沒(méi)有檢漏儀，就只能一部分一部分拆卸或用盲板逐步替換予以排除。也有人用注射針頭注射酒精觀(guān)察真空計的變化檢查，但一般漏的不大時(shí)不好判斷，至于你說(shuō)的真空1.9的那個(gè)其實(shí)也并不高，還有就是漏率是按照你的設備體積以及單位時(shí)間的真空下降程度來(lái)算的不是按照真空值計算的，比如你的真空泵抽速好，抽氣能力強就有可能克服微漏而使真空顯示較高的數值。

如何處理真空鍍膜的灰塵呢
1、設備使用的源材料要符合必要的純度要求。
2、設備樣品取出后要注意放置環(huán)境的清潔問(wèn)題。
3、真空鍍膜一段時(shí)間后，真空室內壁要清潔處理。
4、真空鍍膜清洗襯底材料，要做到嚴格合乎工藝要求。
5、真空鍍膜適當的增加環(huán)境的濕度，有利于降低周?chē)h(huán)境的懸浮固體顆粒物。
6、工作人員在操作時(shí)需要戴手套、腳套等，要有的服裝。
由于灰塵對鍍膜效果會(huì )產(chǎn)生比較大的影響，因此為了避免在真空鍍膜設備中留下灰塵，應該在使用中注意以上幾點(diǎn)來(lái)盡量避免，除此也要注意經(jīng)常清洗，避免灰塵越積越多。

真空鍍膜工藝在信息存儲范疇中的運用薄膜資料作為信息記載于存儲介質(zhì)，有其得天厚的優(yōu)勢：因為薄膜很薄能夠疏忽渦流損耗；磁化回轉極為敏捷；與膜面平行的雙穩態(tài)狀況簡(jiǎn)單保持等。為了更精細地記載與存儲信息，必定要選用鍍膜技能。