在盛有電鍍液的鍍槽中，經(jīng)過(guò)清理和特殊預處理的待鍍件作為陰極，用鍍覆金屬制成陽(yáng)極，兩極分別與直流電源的負極和正極聯(lián)接。電鍍液由含有鍍覆金屬的化合物、導電的鹽類(lèi)、緩沖劑、pH調節劑和添加劑等的水溶液組成。通電后，電鍍液中的金屬離子，在電位差的作用下移動(dòng)到陰極上形成鍍層。陽(yáng)極的金屬形成金屬離子進(jìn)入電鍍液，以保持被鍍覆的金屬離子的濃度[1]。在有些情況下，如鍍鉻，是采用鉛、鉛銻合金制成的不溶性陽(yáng)極，它只起傳遞電子、導通電流的作用。電解液中的鉻離子濃度，需依靠定期地向鍍液中加入鉻化合物來(lái)維持。電鍍時(shí)，陽(yáng)極材料的質(zhì)量、電鍍液的成分、溫度、電流密度、通電時(shí)間、攪拌強度、析出的雜質(zhì)、電源波形等都會(huì )影響鍍層的質(zhì)量，需要適時(shí)進(jìn)行控制。

以前的工廠(chǎng)都配有很多的機器，因為一臺機器設置的材料直徑不一樣，切不同直徑的材料要拿到相應的機器上對應調整才能切出來(lái)?，F在的電鍍設備科方便了，它就在一臺機器上就能完成不同直徑材料的切割，它的技術(shù)含量高，人們空余根據自己的需求自己調節直徑，就在一臺電鍍設備上就能夠完成。 電鍍設備方便、簡(jiǎn)潔，而且它的價(jià)格也非常合理，適合了時(shí)代發(fā)展的需要，是人類(lèi)生產(chǎn)力提高的表現。

如今，各種電鍍設備和配置基本上都是以單一鍍槽為單元的配置.其中除了滾鍍應用了機械操作外，其他既可以是手工生產(chǎn)裝置，也可以是自動(dòng)生產(chǎn)線(xiàn)上可用的裝置。 這種自動(dòng)線(xiàn)會(huì )有很多傳感器監測各種參數，特別是電鍍工藝參數，比如電流密度、溫度、pH值等，都應該在正常范圍內波動(dòng),當變動(dòng)值超過(guò)規定的工藝范圍，被監測到的訊號會(huì )轉化為相應的設備動(dòng)作，向鍍液內補充相應的原材料.可以實(shí)現全自動(dòng)補加的成分包括主鹽溶液(將主鹽先溶解在一定量的蒸餾水中，由控制閥在接受到相關(guān)指令后再排除)、輔助鹽溶液、pH調節劑、光亮劑、添加劑等。如果是采用陽(yáng)極籃，則陽(yáng)極材料要選用角狀或球狀陽(yáng)極，這時(shí)也可以實(shí)現陽(yáng)極材料的自動(dòng)補加。

滾鍍滾鍍自動(dòng)線(xiàn)也有環(huán)形機械或液壓式自動(dòng)線(xiàn)與直線(xiàn)龍門(mén)式自動(dòng)線(xiàn)兩大類(lèi)。環(huán)形機械式適宜于傾斜自動(dòng)裝卸的鐘型滾筒高速電鍍設備(板材、線(xiàn)材)和選擇性電鍍設備隨著(zhù)經(jīng)濟的發(fā)展和電子電鍍的進(jìn)步。對高速電鍍生產(chǎn)自動(dòng)線(xiàn)。選擇性電鍍生產(chǎn)線(xiàn)的需求增多．大多數是技術(shù)與制造能力更大的公司承接。

電鍍電源電鍍電源是電鍍生產(chǎn)過(guò)程中重要的輔助設備。國內大量應用的還是硅整流器和可控硅整流器，分為調壓器調壓、磁飽和電抗器調壓及可控硅凋壓。電鍍用硅整流器和可控硅整流器都是低壓大電流，一般為12V(鍍鉻選用18V)，電流從100A至20000A都有可控硅調壓的硅整流器只有在負荷較高時(shí)渡形良好穩流穩壓、穩定電流密度的電鍍電源也正在推廣應用。

可持續發(fā)展的電鍍工業(yè)模式，是綜合了電鍍生產(chǎn)線(xiàn)資源的節約和環(huán)境保護、效率提高等多種因素的電鍍生產(chǎn)模式。這種模式要求電鍍設備廠(chǎng)不僅僅是從電鍍工藝和環(huán)境保護的角度來(lái)制定方案，而且要從合理的能源結構、資源的節省和再利用多方面為可持續發(fā)展留有充分的余地，比如，基本上將采用水的無(wú)排放技術(shù)，也就是所謂的零排放技術(shù)，即使有排水系統，也將改變以往只以達到排放標準為目標的排放模式，而要將水資源本身和水中的可回收金屬全部加以回收。