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蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來(lái)。并且沉降在基片表面,通過(guò)成膜過(guò)程(散點(diǎn)-島狀結構-迷走結構-層狀生長(cháng))形成薄膜。?
對于濺射類(lèi)鍍膜,可以簡(jiǎn)單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材,并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來(lái),并且終沉積在基片表面,經(jīng)歷成膜過(guò)程,終形成薄膜。
在光學(xué)薄膜的尺度上看(也就是1/10波長(cháng)作為單位,約為100A),真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當好,可以輕松將粗糙度控制在可見(jiàn)光波長(cháng)的1/10范圍內,也就是說(shuō)對于薄膜的光學(xué)特性來(lái)說(shuō),真空鍍膜沒(méi)有任何障礙。?
濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld,組分均勻性容易保持,而原子尺度的厚度均勻性相對較差(因為是脈沖濺射),晶向(外沿)生長(cháng)的控制也比較一般。
真空鍍膜加工中冷卻設備需要提供智能、穩定的冷凍水,來(lái)確保真空鍍膜工藝中電鍍液的溫度恒定,所以會(huì )選擇使用水冷式冷水機來(lái)作為真空鍍膜加工冷卻設備。
一 真空鍍膜加工中冷卻設備冷水機的作用
真空鍍膜加工過(guò)程中,真空鍍膜機作為主要設備,工作過(guò)程中有高頻電流過(guò)程,電導會(huì )在反復過(guò)程中產(chǎn)生大量熱能并且集聚在一起,需要冷卻設備及時(shí)地進(jìn)行冷卻,避免設備部件損壞,影響使用壽命;另外,真空鍍膜電鍍液需要根據電鍍產(chǎn)品不同進(jìn)行溫度調節,并保持相對恒溫,反復鍍膜會(huì )造成鍍液溫度升高,同樣需要冷卻設備來(lái)準確地控制和穩定電鍍液的溫度。在工業(yè)生產(chǎn)控溫中,根據真空鍍膜加工的實(shí)際需求,選用相應規格的冷水機設備來(lái)進(jìn)行、穩定的溫度控制調節是經(jīng)濟有效的解決方案。
利摘要顯示,本申請關(guān)于一種真空鍍膜自動(dòng)加料裝置,涉及真空鍍膜領(lǐng)域。該真空鍍膜自動(dòng)加料裝置包括支架,支架上安裝有滑動(dòng)機構,滑動(dòng)機構上安裝有驅動(dòng)機構以及加料機構,驅動(dòng)機構的動(dòng)力輸出端與加料機構傳動(dòng)連接;加料機構的上方還安裝有儲料罐,儲料罐將粉料輸送至加料機構內,加料機構與外部管式爐的進(jìn)料口接駁;其中,儲料罐上還安裝有攪拌機構,攪拌機構將儲料罐內的粉料均勻的輸送至加料機構內。實(shí)現了在CVD過(guò)程中,粉末狀態(tài)的蒸發(fā)材料(如派瑞林)少量、連續進(jìn)入管式爐以進(jìn)行后續的加熱、升華、裂解工藝,既滿(mǎn)足了蒸發(fā)材料的用量,又達到了實(shí)時(shí)動(dòng)態(tài)調整進(jìn)料量的目的,提升了鍍膜效果,并實(shí)現了一種以上的蒸發(fā)材料復合鍍膜的工藝需求。
裝飾真空鍍膜設備是蒸發(fā)式鍍膜裝置,在真空室中利用電阻加熱法,將緊貼在電阻絲上的金屬絲(鋁絲)熔融汽化,汽化了金屬分子沉積于基片上,而獲得光滑高反射率的膜層,達到裝飾美化物品表面的目的。
該設備具有:結構合理,膜層均勻、成膜質(zhì)量好、抽速大、工作同期短、生產(chǎn)、操作方便,能耗低性能穩定等優(yōu)點(diǎn)。廣泛應用于汽車(chē)、音響、各類(lèi)小家電、電腦、鐘表、玩具、手機、反光杯、化妝品、玩具等行業(yè)。
可加工的材料包括:ABS、PS、PP、PC、PVC、尼龍、金屬、波麗、玻璃、陶瓷、TPU等。
鍍制效果有:普通電鍍亮面、啞面(半啞、全?。?、工藝電鍍皺紋、拉絲、雨滴、七彩等;鍍制顏色有:金、銀、紅、藍、綠、紫、七彩等等。
直接的鍍膜控制方法是石英晶體微量平衡法(QCM),這種儀器可以直接驅動(dòng)蒸發(fā)源,通過(guò)PID控制循環(huán)驅動(dòng)擋板,保持蒸發(fā)速率。只要將儀器與系統控制軟件相連接,它就可以控制整個(gè)的鍍膜過(guò)程。但是(QCM)的度是有限的,部分原因是由于它監控的是被鍍膜的質(zhì)量而不是其光學(xué)厚度。
? ? 此外雖然QCM在較低溫度下非常穩定,但溫度較高時(shí),它會(huì )變得對溫度非常敏感。在長(cháng)時(shí)間的加熱過(guò)程中,很難阻止傳感器跌入這個(gè)敏感區域,從而對膜層造成重大誤差。
? ? 光學(xué)監控是高精密鍍膜的的監控方式,這是因為它可以更地控制膜層厚度(如果運用得當)。度的改進(jìn)源于很多因素,但根本的原因是對光學(xué)厚度的監控。
? ? OPTIMAL SWA-I-05單波長(cháng)光學(xué)監控系統,是采用間接測控,結合汪博士開(kāi)發(fā)的光學(xué)監控軟件,有效提高光學(xué)反應對膜厚度變化靈敏度的理論和方法來(lái)減少誤差,提供了反饋或傳輸的選擇模式和大范圍的監測波長(cháng)。特別適合于各種膜厚的鍍膜監控包括非規整膜監控。
懸浮式高真空卷繞式鍍膜機的卷繞控制要求的轉矩控制,以般采用直流驅動(dòng),但是隨著(zhù)交流驅動(dòng)技術(shù)的飛速發(fā)展,現在逐步采用交流永磁同步伺服電機或交流異步電機驅動(dòng)。丹佛斯FC302系列驅動(dòng)器具有伺服級的驅動(dòng)性能,驅動(dòng)交流異步電機也有實(shí)現平穩的轉矩控制,為這個(gè)行業(yè)提供了一種易用的解決方案,用戶(hù)只需要設置幾個(gè)簡(jiǎn)單的參數,就能滿(mǎn)足實(shí)際生產(chǎn)需求,操作和調試也非常簡(jiǎn)便。
一、懸浮式高真空卷繞式鍍膜機的傳動(dòng)結構:
放卷轉向為正
放卷轉向為負
3驅動(dòng)懸浮式高真空卷繞式鍍膜機的典型傳動(dòng)結構,其中:
M1為冷卻輥,直徑恒定,由一臺FC302驅動(dòng),冷輥的速度即為鍍膜的線(xiàn)速度。
M2為收卷輥,中心卷繞,直徑逐步變大,由一臺FC302驅動(dòng),提供收卷張力。
M3為放卷輥,中心卷繞,直徑逐步變小,由一臺FC302驅動(dòng),提供放卷張力。
冷卻輥和收卷輥的轉向是固定的,但是放卷輥由于卷筒卷繞方向不同,工作時(shí)有正、反兩種轉向,對應反、正兩種轉矩。
真空鍍膜機傳動(dòng)系統的特點(diǎn):
1.由于真空室狹小,無(wú)法安裝張力檢測裝置,所以收、放卷張力完全要靠收、放卷驅動(dòng)的電機直接控制。因此收、放卷驅動(dòng)器都工作于轉矩工作模式。對于較輕較薄的材料,收卷還有張力錐度功能。
2.由于工藝方面的原因,起主傳動(dòng)作用的冷卻輥上沒(méi)有壓輥,因此冷卻輥只能靠摩擦力帶動(dòng)薄膜;收、放卷張力相差較大時(shí),薄膜很容易在冷卻輥上打滑。如何防止打滑是驅動(dòng)控制方面的難題。
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