各種類(lèi)型的濺射薄膜材料，鉿靶，鋯靶在半導體集成電路(VLSI)、光碟、平面顯示器以及工件的表面涂層等方面都得到了廣泛的應用。20世紀90年代以來(lái)，濺射靶材及濺射技術(shù)的同步發(fā)展，地滿(mǎn)足了各種新型電子元器件發(fā)展的需求。例如，在半導體集成電路制造過(guò)程中，以電阻率較低的銅導體薄膜代替鋁膜布線(xiàn)：在平面顯示器產(chǎn)業(yè)中，各種顯示技術(shù)(如LCD、PDP、OLED及FED等)的同步發(fā)展，有的已經(jīng)用于電腦及計算機的顯示器制造；在信息存儲產(chǎn)業(yè)中，磁性存儲器的存儲容量不斷增加，新的磁光記錄材料不斷推陳出新這些都對所需濺射靶材的質(zhì)量提出了越來(lái)越高的要求，需求數量也逐年增加。
市場(chǎng)概況
日本。就美國而言．約有50家中小規模的靶材制造商及經(jīng)銷(xiāo)商，其中大的公司員工大約有幾百人。不過(guò)為了能更接近使用者，以便提供更完善的售后服務(wù)，全球主要靶材制造商通常會(huì )在客戶(hù)所在地設立分公司。近段時(shí)間，的一些國家和地區，如臺灣．韓國和新加坡，就建立了越來(lái)越多制造薄膜元件或產(chǎn)品的工廠(chǎng)，如IC、液晶顯示器及光碟制造廠(chǎng)。
對靶材廠(chǎng)商而言，這是相當重要的新興市場(chǎng)。中國靶材產(chǎn)業(yè)發(fā)展也是與日俱增，不斷的擴大自己的規模和生產(chǎn)技術(shù)，國內一線(xiàn)生產(chǎn)制造靶材的已經(jīng)達到國外的技術(shù)水平。2010年，日本三菱公司就在中國臺灣地區建立了光碟塒靶材的生產(chǎn)基地，可以滿(mǎn)足臺灣50%的靶材需要。

鋯管-鋯板-鋯帶-鋯棒-鋯絲
牌號：Zr－0、Zr－2、R60702，R60705、Zr－4；
規格： 0.03～50×200～600×Lmm 0.5～100×Lmm；
種類(lèi)：軋制、鍛制、拉制；標準：Q／BS6531－91、GB8769－88、Q／BS6331－91、Q／BS6431－91。

鋯作為與氧有親和力的活潑金屬，氧化膜的耐蝕性能決定了其可以勝任多重腐蝕環(huán)境。
一、工業(yè)純鋯在所有的沸騰的所有濃度鹽酸中，腐蝕速率均小于0.025mm/a。
二、在小于70%的硫酸中鋯具有的耐蝕性。此外由于不銹鋼和鎳合金不能在高溫、20%的硫酸和40-60%的沸騰溫度以下的硫酸范圍內使用，故鋯在硫酸環(huán)境具有無(wú)可替代的作用。
三、在200℃以下，不大于90%的硝酸中，鋯具有良好的耐蝕性。但應注意鋯在硝酸中的應力腐蝕開(kāi)裂敏感性。
四、鋯在所有濃度甚至沸騰的苛性堿溶液中都耐腐蝕。耐蝕性超過(guò)了鉭、鈮、鈦。