濺射鍍膜又分為很多種，總體看，與蒸發(fā)鍍膜的不同點(diǎn)在于濺射速率將成為主要參數之一。濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld，組分均勻性容易保持，而原子尺度的厚度均勻性相對較差（因為是脈沖濺射），晶向（外沿）生長(cháng)的控制也比較一般。

多功用磁控濺射鍍膜系統，由真空鍍膜系統和手套箱系統集成而成，可在高真空蒸鍍腔室中完結薄膜蒸鍍，并在手套箱高純惰性氣體氣氛下進(jìn)行樣品的寄存、制備以及蒸鍍后樣品的檢測。蒸騰鍍膜與手套箱組合，實(shí)現蒸鍍、封裝、測驗等工藝全封閉制造，使整個(gè)薄膜生長(cháng)和器材制備過(guò)程高度集成在一個(gè)完整的可控環(huán)境氣氛的系統中，消除有機大面積電路制備過(guò)程中大氣環(huán)境中不穩定因素影響，保障了高功用、大面積有機光電器材和電路的制備。

塑膠具有易成型，價(jià)格便宜，質(zhì)量輕，防腐蝕等長(cháng)處，但塑膠的缺陷也比較，其缺陷也制約了塑膠的應用規模，如不美觀(guān)、易老化、機械功能差、易碎易變型、耐熱差等。經(jīng)過(guò)真空鍍膜機的應用，使塑膠外表鍍上特定膜層，東莞匯成真空自主研制出產(chǎn)的蒸發(fā)真空鍍膜設備將鍍膜機資料和塑膠產(chǎn)呂結合，大大提高了塑膠制品的物理、化學(xué)功能。

暴露在空氣中的真空鍍膜機表面容易受到污染。污染源有很多，初的污染通常是地表本身的一部分。吸附現象、化學(xué)反應、浸出干燥過(guò)程、機械處理、擴散和偏析過(guò)程都增加了各種組分的表面污染物。真空材料表面的常見(jiàn)污染物如下。

　?、儆椭?潤滑劑、切削液、真空油脂等。在加工、組裝和操作過(guò)程中被污染;

　?、谒?lèi):操作時(shí)的手汗、吹氣時(shí)的水蒸氣、唾液等。

　?、郾砻嫜趸?材料長(cháng)時(shí)間放置在空氣中或潮濕空氣中形成的表面氧化物;

　?、芩?、堿、鹽類(lèi)物質(zhì):清洗時(shí)的殘留物質(zhì)、手汗、水中的礦物質(zhì)等。

　?、莪h(huán)境空氣中的拋光殘渣、灰塵和其他有機物等。

與傳統的鍍膜方法相比，真空鍍膜屬于干法鍍膜，其主要方法有以下幾種:

　　1.真空蒸發(fā)

　　其原理是在真空條件下，用蒸發(fā)器加熱蒸發(fā)材料使其蒸發(fā)或升華，蒸發(fā)的離子流直接射向基片，在基片上沉積固體薄膜。

　　2.濺射涂層

　　濺射鍍膜是一種真空條件，在陰極施加2000V高壓激發(fā)輝光放電，帶正電的氬離子撞擊陰極噴出原子。濺射的原子通過(guò)惰性氣氛沉積在襯底上形成薄膜。17_副本.jpg

　　3.離子電鍍法

　　即干式螺桿真空泵制造商已經(jīng)推出的真空離子涂層。它是在上述兩種真空鍍膜技術(shù)的基礎上發(fā)展起來(lái)的，所以具有兩者的工藝特點(diǎn)。在真空條件下，工作氣體或蒸發(fā)物質(zhì)(膜材料)通過(guò)氣體放電被部分電離，蒸發(fā)物質(zhì)或其反應物在離子轟擊下沉積在基片表面。在成膜的過(guò)程中，襯底總是受到高能粒子的轟擊，這使得它非常干凈。

　　4.真空卷繞涂層

　　真空鍍膜是通過(guò)物理氣相沉積在柔性基板上進(jìn)行連續鍍膜的技術(shù)，以實(shí)現柔性基板的某些功能性和裝飾性。

在檢漏過(guò)程中，為了做好檢漏工作，有必要注意一些問(wèn)題。

，檢查虛漏是否仍為實(shí)漏，因為工件數據加熱后會(huì )出現不同程度的氣體，有可能被誤認為是從外部流出的氣體，這就是虛漏，要消除這種情況。

第二，測試真空室的氣密性功能，確保氣密性功能符合要求。

三、檢查漏孔的大小、形狀、方位、漏速，編制解決方案并實(shí)施。

四、得出檢測儀器檢漏的檢出率和靈敏度，要檢查刻度的泄漏情況，防止一些泄漏孔被疏忽，提高泄漏檢測的準確性。

五、掌握檢漏儀的反應時(shí)間和消除時(shí)間，把握好時(shí)間，檢漏儀操作到位，時(shí)間少，檢漏功能一定差，時(shí)間長(cháng)，浪費檢漏氣和人工電。

六、還要防止泄漏堵塞，有時(shí)由于操作失誤，在檢漏過(guò)程中，一些灰塵或液體將泄漏堵塞，認為孔的方向沒(méi)有泄漏，但當由于內外壓差進(jìn)展或其他原因導致泄漏孔未堵塞時(shí)，泄漏仍在那里。