回收二手電鍍廠(chǎng)生產(chǎn)線(xiàn)設備?；厥照婵斟兡C、回收CCZK-OGS光學(xué)鍍膜設備、二手多弧離子真空鍍膜機回收、二手回收連續磁控鍍膜生產(chǎn)線(xiàn)、二手CCZK-RC卷繞鍍膜機回收、二手回收車(chē)燈保護膜鍍膜設備、回收電阻蒸發(fā)真空鍍膜機、回收二手磁控濺射鍍膜機流水線(xiàn)設備
離子鍍膜，一個(gè)精密的工藝過(guò)程，其核心是離子濺射鍍膜。對于導電靶，偏壓電源扮演了關(guān)鍵角色，采用直流電場(chǎng)的精密調控，確保陰極表面的電子被加速，進(jìn)而轟擊氣體分子，引發(fā)電離現象。這個(gè)過(guò)程中，電子被電場(chǎng)驅動(dòng)，形成雪崩效應，直至氣體被擊穿，形成穩定的電離電流，進(jìn)而驅動(dòng)離子加速，撞擊靶材，將原子釋放并沉積在樣品表面，形成所需涂層。

偏壓電源，就像熒光燈中的核心組件，它通過(guò)高頻轉換電路，以單極性脈沖方式輸出。電源電壓的精細調整通過(guò)改變高頻轉換電路的輸入電壓實(shí)現，穩壓性能高達1%。這種設計允許在工藝所需電壓的同時(shí)，通過(guò)調整脈沖寬度來(lái)控制工件的加熱效果，適用于各種涂層需求，從工具保護到裝飾美化。

離子滲氮：可以在輝光放電條件下，將N、C等元素滲入到零件和模具內部、明顯提高表面硬度、抗疲勞等性能和耐腐蝕性，相對于總體滲氮處理時(shí)間短、濕度低、變形小、表面性能可控，可用于各種鋼鐵及鈦合金結構件，各種模具和各種不銹鋼制品。
等離子體化學(xué)氣相沉積設備與技術(shù)(離子滲氮，氮碳共滲)
等離子體化學(xué)氣相沉積（PCVD）是一種新型的脈沖直流等離子體輔助沉積硬質(zhì)鍍膜新技術(shù)。在一定壓力、溫度的真空爐內，加入適當比例的不同工作氣體，在脈沖電壓的作用下，通過(guò)輝光放電產(chǎn)生均勻等離子體。在不同工藝條件下，可在被處理工件表面形成各種硬質(zhì)膜如TiN、TiC、TiCN、(Ti、Si)N、(Ti、Si)CN及多層復合膜等，顯微硬度高達HV2000--2500。

發(fā)黑通常是由于過(guò)早氧化造成的。泛黃一般是因為鋁源中含有雜質(zhì)過(guò)多，一般純度應在4 N或5N以上。無(wú)論是涂布機的真空度不達標，都要達到10—7倍Pa。（不準確）。涂敷物品的清洗不，表面殘留有清潔劑和水。被涂物品表面溫度不合理，溫度過(guò)高或過(guò)低。涂層項目的潛在設置不合理。真空擴散泵油應更換。調節蒸發(fā)源的溫度，不能太低或太高。如果電子束蒸發(fā)，電子束的轟擊位置也應該調整。

1）所需設備：CCZK-1350-OGS光學(xué)電子槍鍍膜設備
　　2）獲得膜層：多層化合物膜層，超硬防水膜層，防指紋膜層，彩色膜層
　　3）涂裝流程：玻璃產(chǎn)品的前處理清洗----烘箱烘干-----真空鍍膜----成品包裝
　　4）基本配置：
　　腔體結構：D1350MM*H1350MM 立式單開(kāi)門(mén)
　　腔體材質(zhì)：304不銹鋼
　　轉動(dòng)方式：公自轉結合，穹頂行星式轉架
　　蒸發(fā)電源：SCR可控硅+大功率蒸發(fā)變壓器
　　蒸發(fā)阻源：3組
　　電 子 槍?zhuān)篍型電子槍?zhuān)牌D270°
　　坩 ? ?堝：可旋轉多孔位坩堝

1）所需設備：CCZK-1850SFL連續式磁控鍍膜流水線(xiàn)
　　2) 獲得膜層：一層或多層金屬，合金或金屬化合物膜層
　　3）涂裝流程： 玻璃產(chǎn)品的前處理清洗過(guò)程---進(jìn)片上線(xiàn)臺---粗抽室---過(guò)渡室---精抽室---緩沖室---鍍膜室---后緩沖---精抽室---過(guò)渡室---粗抽室---出片下線(xiàn)臺---淋漆流水線(xiàn)（如果需要）---包裝成品
　　4）基本配置：
　　1.腔體結構：采用的臥式連續磁控鍍膜流水線(xiàn)，配備前后粗抽室，前后過(guò)渡室，前后精抽室，前后緩沖室，彩鍍室。
　　2.腔體材質(zhì)：碳鋼
　　3.靶材設計：采用新型旋極靶材以及平面陰極靶材。
　　4.電源配置：配備大功率中頻或直流磁控濺射電源
　　5.電氣控制：生產(chǎn)線(xiàn)采用PLC全過(guò)程控制，配備工業(yè)計算機人機交互系統，快速的節拍設計。
　　6.人機對話(huà)：控制系統能實(shí)現人、機對話(huà)，及時(shí)對生產(chǎn)過(guò)程進(jìn)行必要干預。運行過(guò)程有報警提示和故障顯示，故障顯示能提示操作人員正確的操作和排故。
　　7.傳動(dòng)系統：滾軸傳動(dòng)，變頻可調
　　8.可鍍膜玻璃或平板,尺寸可定制
　　9. 生產(chǎn)線(xiàn)安采用了的插板閥進(jìn)行腔室隔斷，可以實(shí)現有效隔斷，穩定工藝氣體。
　　10.生產(chǎn)線(xiàn)采用了均勻進(jìn)氣管結構設計，氣流注入均勻平緩；
　　11.泵抽系統：擴散泵組或分子泵組+機械泵+羅茨泵
　　5）需求配套設施：

直接的鍍膜控制方法是石英晶體微量平衡法(QCM)，這種儀器可以直接驅動(dòng)蒸發(fā)源，通過(guò)PID控制循環(huán)驅動(dòng)擋板，保持蒸發(fā)速率。只要將儀器與系統控制軟件相連接，它就可以控制整個(gè)的鍍膜過(guò)程。但是(QCM)的度是有限的，部分原因是由于它監控的是被鍍膜的質(zhì)量而不是其光學(xué)厚度。
? ? 此外雖然QCM在較低溫度下非常穩定，但溫度較高時(shí)，它會(huì )變得對溫度非常敏感。在長(cháng)時(shí)間的加熱過(guò)程中，很難阻止傳感器跌入這個(gè)敏感區域，從而對膜層造成重大誤差。
? ? 光學(xué)監控是高精密鍍膜的的監控方式，這是因為它可以更地控制膜層厚度(如果運用得當)。度的改進(jìn)源于很多因素,但根本的原因是對光學(xué)厚度的監控。
? ? OPTIMAL SWA-I-05單波長(cháng)光學(xué)監控系統，是采用間接測控，結合汪博士開(kāi)發(fā)的光學(xué)監控軟件，有效提高光學(xué)反應對膜厚度變化靈敏度的理論和方法來(lái)減少誤差，提供了反饋或傳輸的選擇模式和大范圍的監測波長(cháng)。特別適合于各種膜厚的鍍膜監控包括非規整膜監控。