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蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來(lái)。并且沉降在基片表面，通過(guò)成膜過(guò)程（散點(diǎn)－島狀結構-迷走結構-層狀生長(cháng)）形成薄膜。 對于濺射類(lèi)鍍膜，可以簡(jiǎn)單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來(lái)，并且終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過(guò)程，終形成薄膜。
真空鍍膜設備應用十分廣泛，如今在我們的生活中到處可見(jiàn)，是的一項技術(shù)。但是真空鍍膜設備在使用一段時(shí)間后，表面就會(huì )留下灰塵影響真空鍍膜的整體效果。
真空鍍膜工藝在信息存儲范疇中的運用薄膜資料作為信息記載于存儲介質(zhì)，有其得天厚的優(yōu)勢：因為薄膜很薄能夠疏忽渦流損耗；磁化回轉極為敏捷；與膜面平行的雙穩態(tài)狀況簡(jiǎn)單保持等。為了更精細地記載與存儲信息，必定要選用鍍膜技能。
