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真空鍍膜機的工作原理如下:
在鍍膜領(lǐng)域,鍍膜后薄膜樣品的厚度是影響薄膜性能的一個(gè)重要因素。因此,當評價(jià)某薄膜樣品的性能時(shí),需要檢測該薄膜樣品不同厚度下的性能。對于真空鍍膜的情形,這往往需要進(jìn)行多次試樣的制備。而這樣多次制備樣品存在兩個(gè)問(wèn)題:,不同次生長(cháng)的樣品,儀器的狀態(tài)不同,以至于影響薄膜樣品性能的因素可能不僅僅是厚度;其次,真空鍍膜實(shí)驗裝取樣品需要重新進(jìn)行真空的獲得,非常耗時(shí)。增加了生產(chǎn)和檢測的成本。
因此,提供一種多功能磁控濺射鍍膜系統,本系統由真空鍍膜系統和手套箱系統集成而成,可在高真空蒸鍍腔室中完成薄膜蒸鍍,并在手套箱高純惰性氣體氛圍下進(jìn)行樣品的存放、制備以及蒸鍍后樣品的檢測。蒸發(fā)鍍膜與手套箱組合,實(shí)現蒸鍍、封裝、測試等工藝全封閉制作,使整個(gè)薄膜生長(cháng)和器件制備過(guò)程高度集成在一個(gè)完整的可控環(huán)境氛圍的系統中,消除有機大面積電路制備過(guò)程中大氣環(huán)境中不穩定因素影響,保障了、大面積有機光電器件和電路的制備。
真空鍍膜工藝在傳感器方面的運用在傳感器中,多選用那些電氣性質(zhì)相關(guān)于物理量、化學(xué)量及其變化來(lái)說(shuō),極為敏感的半導體資料。此外,其中大多數運用的是半導體的外表、界面的性質(zhì),需求盡量增大其面積,且能工業(yè)化、低報價(jià)制造、因而選用薄膜的狀況許多。
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