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多功用磁控濺射鍍膜系統，由真空鍍膜系統和手套箱系統集成而成，可在高真空蒸鍍腔室中完結薄膜蒸鍍，并在手套箱高純惰性氣體氣氛下進(jìn)行樣品的寄存、制備以及蒸鍍后樣品的檢測。蒸騰鍍膜與手套箱組合，實(shí)現蒸鍍、封裝、測驗等工藝全封閉制造，使整個(gè)薄膜生長(cháng)和器材制備過(guò)程高度集成在一個(gè)完整的可控環(huán)境氣氛的系統中，消除有機大面積電路制備過(guò)程中大氣環(huán)境中不穩定因素影響，保障了高功用、大面積有機光電器材和電路的制備。
真空鍍膜機的污染物可以定義為“任何一種無(wú)用的物質(zhì)或能量”。多弧離子鍍膜機根據污染物的物理狀態(tài)可分為固態(tài)、氣態(tài)和液態(tài)，污染物以薄膜或顆粒的形式存在。就其化學(xué)特性而言，它可以是離子態(tài)或共價(jià)態(tài)，無(wú)機態(tài)或有機態(tài)。
真空是支撐真空鍍膜機運行的環(huán)境，尤其是需要高真空度的設備。通常，我們需要達到高的真空度，而抽氣系統的功能是不可缺少的。但是除了抽氣系統之外，真空鍍膜設備的操作還有一點(diǎn)，就是工件的脫氣。有些工件內部有大量氣體和水分，在設備加熱時(shí)會(huì )排入真空室，降低真空度。更有甚者，有些氣體含有有毒成分，直接破壞真空室內部機械結構，導致設備無(wú)法正常運行。
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