各種類(lèi)型的濺射薄膜材料，鉿靶，鋯靶在半導體集成電路(VLSI)、光碟、平面顯示器以及工件的表面涂層等方面都得到了廣泛的應用。20世紀90年代以來(lái)，濺射靶材及濺射技術(shù)的同步發(fā)展，地滿(mǎn)足了各種新型電子元器件發(fā)展的需求。例如，在半導體集成電路制造過(guò)程中，以電阻率較低的銅導體薄膜代替鋁膜布線(xiàn)：在平面顯示器產(chǎn)業(yè)中，各種顯示技術(shù)(如LCD、PDP、OLED及FED等)的同步發(fā)展，有的已經(jīng)用于電腦及計算機的顯示器制造；在信息存儲產(chǎn)業(yè)中，磁性存儲器的存儲容量不斷增加，新的磁光記錄材料不斷推陳出新這些都對所需濺射靶材的質(zhì)量提出了越來(lái)越高的要求，需求數量也逐年增加。
市場(chǎng)概況
日本。就美國而言．約有50家中小規模的靶材制造商及經(jīng)銷(xiāo)商，其中大的公司員工大約有幾百人。不過(guò)為了能更接近使用者，以便提供更完善的售后服務(wù)，全球主要靶材制造商通常會(huì )在客戶(hù)所在地設立分公司。近段時(shí)間，的一些國家和地區，如臺灣．韓國和新加坡，就建立了越來(lái)越多制造薄膜元件或產(chǎn)品的工廠(chǎng)，如IC、液晶顯示器及光碟制造廠(chǎng)。
對靶材廠(chǎng)商而言，這是相當重要的新興市場(chǎng)。中國靶材產(chǎn)業(yè)發(fā)展也是與日俱增，不斷的擴大自己的規模和生產(chǎn)技術(shù)，國內一線(xiàn)生產(chǎn)制造靶材的已經(jīng)達到國外的技術(shù)水平。2010年，日本三菱公司就在中國臺灣地區建立了光碟塒靶材的生產(chǎn)基地，可以滿(mǎn)足臺灣50%的靶材需要。

名　　稱(chēng)：鋯管
規　　格：Φ8.0—89.0（外直徑）╳ 1.0—10.0（壁厚）╳ L（長(cháng)）mm
狀　　態(tài)：退火
主要性能： 抗拉強度HB>379Mpa 導熱率=0.040Cal/cm2 （可以彎成需要的形狀）
應用領(lǐng)域：油箱盤(pán)管、殼管熱交換器、熱虹吸管、蒸發(fā)器、卡口加熱器和人造絲絲囊、管殼式換熱器,列管式換熱器,加熱管,管式預熱器、化工設備反應釜盤(pán)管等。
例如：在蒸氣壓力為239000Pa，溫度為373K，管中流體含5%硫酸、3%、6%硫酸鈉的條件下，用鋯盤(pán)管代替鉛盤(pán)等，使用壽命在10年以上。

鋯管-----玻璃鋼反應釜有如下優(yōu)點(diǎn)：
1、使用壽命長(cháng)，至少3年以上。
2、免維護，省卻設備的維修費用及停工成本費用。
3、高工效，因鋯金屬導熱性能強，其加熱及降溫速度快。5方母液、8平方換熱面積，從120℃降至40℃不超過(guò)90分鐘。蒸汽與冷卻水可隨時(shí)切換。
4、安全性能高，由于玻璃鋼的柔韌性，不會(huì )像普通釜那樣由于掉黏而被迅速腐蝕，產(chǎn)生漏液的危險。
5、耐腐蝕性能更優(yōu)，能耐住氣態(tài)氯及氣態(tài)氫的混合腐蝕，在雙甘膦及草甘膦的生產(chǎn)中優(yōu)勢更為明顯。