3. 開(kāi)維持泵、真空計電源，真空計檔位置V1位置，等待其值小于10后，再進(jìn)入下一步操作。約需5分鐘。
4. 開(kāi)機械泵、予抽，開(kāi)渦輪分子泵電源、啟動(dòng)，真空計開(kāi)關(guān)換到V2位置，抽到小于2為止，約需20分鐘。
5. 觀(guān)察渦輪分子泵讀數到達250以后，關(guān)予抽，開(kāi)前機和
高閥繼續抽真空，抽真空到達一定程度后才能開(kāi)右邊的高真空表頭，觀(guān)察真空度。真空到達2×10-3以后才能開(kāi)電子槍電源。 1. 總電源。
2. 同時(shí)開(kāi)電子槍控制Ⅰ和電子槍控制Ⅱ電源：按電子槍控制Ⅰ電源、延時(shí)開(kāi)關(guān)，延時(shí)、電源及保護燈亮，三分鐘后延時(shí)及保護燈滅，若后門(mén)未關(guān)好或水流繼電器有故障，保護燈會(huì )常亮。
3. 開(kāi)高壓，高壓會(huì )達到10KV以上，調節束流可到200mA左右，簾柵為20V/100mA，燈絲電流1.2A，偏轉電流在1~1.7之間擺動(dòng)。 1. 關(guān)高真空表頭、關(guān)分子泵。
2. 待分子泵顯示到50時(shí)，依次關(guān)高閥、前級、機械泵，這期間約需40分鐘。

真空蒸發(fā)鍍膜設備主要用于在經(jīng)予處理的塑料、陶瓷等制品表面蒸鍍金屬薄膜（鍍鋁、鉻、錫、不銹鋼等金屬）、七彩膜仿金膜等,從而獲得光亮、美觀(guān)、的塑料,陶瓷表面金屬化制品。廣泛應用于工藝美術(shù)、裝璜裝飾、燈具、家具、玩具、酒瓶蓋、女式鞋后跟等領(lǐng)域,
JTPZ多功能鍍膜技術(shù)及設備（加有射頻等離子體聚合的蒸發(fā)鍍膜機），針對汽車(chē)、摩托車(chē)燈具而設計的，在一個(gè)真空室內完成蒸發(fā)鍍鋁和射頻等離子體鍍保護膜，這種鍍膜后燈具具有“三防”功能。射頻等離子體聚合膜還應用于光學(xué)產(chǎn)品、磁記錄介質(zhì)、軍事保護膜；防潮增透膜；防銹抗腐蝕；耐磨增硬膜。

1．在真空鍍膜機運轉正常情況下，開(kāi)動(dòng)真空鍍膜機時(shí)，先開(kāi)水管，工作中應隨時(shí)注意水壓。
2．在離子轟擊和蒸發(fā)時(shí)，應特別注意高壓電線(xiàn)接頭，不得觸動(dòng)，以防觸電。
3．在用電子槍鍍膜時(shí)，應在鐘罩外圍上鋁板。觀(guān)察窗的玻璃好用鉛玻璃，觀(guān)察時(shí)應戴上鉛玻璃眼鏡，以防X射線(xiàn)侵害人體。
4．鍍制多層介質(zhì)膜的鍍膜間，應安裝通風(fēng)吸塵裝置，及時(shí)排除有害粉塵。
5．易燃有毒物品要妥善保管，以防失火中毒。
6．酸洗夾具應在通風(fēng)裝置內進(jìn)行，并要戴橡皮手套。
7．把零件放入酸洗或堿洗槽中時(shí)，應輕拿輕放，不得碰撞及濺出。平時(shí)酸洗槽盆應加蓋。
8．工作完畢應斷電、斷水。

真空鍍膜加工中冷卻設備需要提供智能、穩定的冷凍水，來(lái)確保真空鍍膜工藝中電鍍液的溫度恒定，所以會(huì )選擇使用水冷式冷水機來(lái)作為真空鍍膜加工冷卻設備。

一 真空鍍膜加工中冷卻設備冷水機的作用

真空鍍膜加工過(guò)程中，真空鍍膜機作為主要設備，工作過(guò)程中有高頻電流過(guò)程，電導會(huì )在反復過(guò)程中產(chǎn)生大量熱能并且集聚在一起，需要冷卻設備及時(shí)地進(jìn)行冷卻，避免設備部件損壞，影響使用壽命；另外，真空鍍膜電鍍液需要根據電鍍產(chǎn)品不同進(jìn)行溫度調節，并保持相對恒溫，反復鍍膜會(huì )造成鍍液溫度升高，同樣需要冷卻設備來(lái)準確地控制和穩定電鍍液的溫度。在工業(yè)生產(chǎn)控溫中，根據真空鍍膜加工的實(shí)際需求，選用相應規格的冷水機設備來(lái)進(jìn)行、穩定的溫度控制調節是經(jīng)濟有效的解決方案。

利摘要顯示，本申請關(guān)于一種真空鍍膜自動(dòng)加料裝置，涉及真空鍍膜領(lǐng)域。該真空鍍膜自動(dòng)加料裝置包括支架，支架上安裝有滑動(dòng)機構，滑動(dòng)機構上安裝有驅動(dòng)機構以及加料機構，驅動(dòng)機構的動(dòng)力輸出端與加料機構傳動(dòng)連接；加料機構的上方還安裝有儲料罐，儲料罐將粉料輸送至加料機構內，加料機構與外部管式爐的進(jìn)料口接駁；其中，儲料罐上還安裝有攪拌機構，攪拌機構將儲料罐內的粉料均勻的輸送至加料機構內。實(shí)現了在CVD過(guò)程中，粉末狀態(tài)的蒸發(fā)材料（如派瑞林）少量、連續進(jìn)入管式爐以進(jìn)行后續的加熱、升華、裂解工藝，既滿(mǎn)足了蒸發(fā)材料的用量，又達到了實(shí)時(shí)動(dòng)態(tài)調整進(jìn)料量的目的，提升了鍍膜效果，并實(shí)現了一種以上的蒸發(fā)材料復合鍍膜的工藝需求。

1）所需設備：CCZK-1350-OGS光學(xué)電子槍鍍膜設備
　　2）獲得膜層：多層化合物膜層，超硬防水膜層，防指紋膜層，彩色膜層
　　3）涂裝流程：玻璃產(chǎn)品的前處理清洗----烘箱烘干-----真空鍍膜----成品包裝
　　4）基本配置：
　　腔體結構：D1350MM*H1350MM 立式單開(kāi)門(mén)
　　腔體材質(zhì)：304不銹鋼
　　轉動(dòng)方式：公自轉結合，穹頂行星式轉架
　　蒸發(fā)電源：SCR可控硅+大功率蒸發(fā)變壓器
　　蒸發(fā)阻源：3組
　　電 子 槍?zhuān)篍型電子槍?zhuān)牌D270°
　　坩 ? ?堝：可旋轉多孔位坩堝

1）所需設備：CCZK-1850SFL連續式磁控鍍膜流水線(xiàn)
　　2) 獲得膜層：一層或多層金屬，合金或金屬化合物膜層
　　3）涂裝流程： 玻璃產(chǎn)品的前處理清洗過(guò)程---進(jìn)片上線(xiàn)臺---粗抽室---過(guò)渡室---精抽室---緩沖室---鍍膜室---后緩沖---精抽室---過(guò)渡室---粗抽室---出片下線(xiàn)臺---淋漆流水線(xiàn)（如果需要）---包裝成品
　　4）基本配置：
　　1.腔體結構：采用的臥式連續磁控鍍膜流水線(xiàn)，配備前后粗抽室，前后過(guò)渡室，前后精抽室，前后緩沖室，彩鍍室。
　　2.腔體材質(zhì)：碳鋼
　　3.靶材設計：采用新型旋極靶材以及平面陰極靶材。
　　4.電源配置：配備大功率中頻或直流磁控濺射電源
　　5.電氣控制：生產(chǎn)線(xiàn)采用PLC全過(guò)程控制，配備工業(yè)計算機人機交互系統，快速的節拍設計。
　　6.人機對話(huà)：控制系統能實(shí)現人、機對話(huà)，及時(shí)對生產(chǎn)過(guò)程進(jìn)行必要干預。運行過(guò)程有報警提示和故障顯示，故障顯示能提示操作人員正確的操作和排故。
　　7.傳動(dòng)系統：滾軸傳動(dòng)，變頻可調
　　8.可鍍膜玻璃或平板,尺寸可定制
　　9. 生產(chǎn)線(xiàn)安采用了的插板閥進(jìn)行腔室隔斷，可以實(shí)現有效隔斷，穩定工藝氣體。
　　10.生產(chǎn)線(xiàn)采用了均勻進(jìn)氣管結構設計，氣流注入均勻平緩；
　　11.泵抽系統：擴散泵組或分子泵組+機械泵+羅茨泵
　　5）需求配套設施：

直接的鍍膜控制方法是石英晶體微量平衡法(QCM)，這種儀器可以直接驅動(dòng)蒸發(fā)源，通過(guò)PID控制循環(huán)驅動(dòng)擋板，保持蒸發(fā)速率。只要將儀器與系統控制軟件相連接，它就可以控制整個(gè)的鍍膜過(guò)程。但是(QCM)的度是有限的，部分原因是由于它監控的是被鍍膜的質(zhì)量而不是其光學(xué)厚度。
? ? 此外雖然QCM在較低溫度下非常穩定，但溫度較高時(shí)，它會(huì )變得對溫度非常敏感。在長(cháng)時(shí)間的加熱過(guò)程中，很難阻止傳感器跌入這個(gè)敏感區域，從而對膜層造成重大誤差。
? ? 光學(xué)監控是高精密鍍膜的的監控方式，這是因為它可以更地控制膜層厚度(如果運用得當)。度的改進(jìn)源于很多因素,但根本的原因是對光學(xué)厚度的監控。
? ? OPTIMAL SWA-I-05單波長(cháng)光學(xué)監控系統，是采用間接測控，結合汪博士開(kāi)發(fā)的光學(xué)監控軟件，有效提高光學(xué)反應對膜厚度變化靈敏度的理論和方法來(lái)減少誤差，提供了反饋或傳輸的選擇模式和大范圍的監測波長(cháng)。特別適合于各種膜厚的鍍膜監控包括非規整膜監控。

現場(chǎng)實(shí)際運行證明丹佛斯FC302驅動(dòng)器+MCO305運動(dòng)控制器的解決方案完夠滿(mǎn)足真空鍍膜機的卷繞控制要求。整機加減速速度超過(guò)原來(lái)的控制方式，大大減少了原材料的浪費?？刂葡到y調試和參數設置都比較方便。令客戶(hù)滿(mǎn)意的是電機可以采用比較經(jīng)濟的交流異步電機，在張力控制精度要求更高的場(chǎng)合才需要升級使用交流永磁同步電機。由于FC302既能驅動(dòng)異步電機，又能驅動(dòng)同步電機，系統升級時(shí)只需簡(jiǎn)單地更換電機即可。