化學(xué)組分上的均勻性： 就是說(shuō)在薄膜中，化合物的原子組分會(huì )由于尺度過(guò)小而很容易的產(chǎn)生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過(guò)程不科學(xué)，那么實(shí)際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學(xué)成分，這也是真空鍍膜的技術(shù)含量所在。 具體因素也在下面給出。

濺射鍍膜又分為很多種，總體看，與蒸發(fā)鍍膜的不同點(diǎn)在于濺射速率將成為主要參數之一。濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld，組分均勻性容易保持，而原子尺度的厚度均勻性相對較差（因為是脈沖濺射），晶向（外沿）生長(cháng)的控制也比較一般。

真空是支撐真空鍍膜機運行的環(huán)境，尤其是需要高真空度的設備。通常，我們需要達到高的真空度，而抽氣系統的功能是不可缺少的。但是除了抽氣系統之外，真空鍍膜設備的操作還有一點(diǎn)，就是工件的脫氣。有些工件內部有大量氣體和水分，在設備加熱時(shí)會(huì )排入真空室，降低真空度。更有甚者，有些氣體含有有毒成分，直接破壞真空室內部機械結構，導致設備無(wú)法正常運行。

在鍍膜的過(guò)程中，由于工件內氣體的受熱膨脹，很容易使已經(jīng)鍍膜的薄膜開(kāi)裂。當然，這種情況的概率取決于工件本身的物理性質(zhì)。比如容易膨脹的，比如塑料，概率就比較高，而對于堅硬的材料，比如金屬，概率就比較低，但也不能忽略。因此，工件的除氣是非常必要的。

檢查泄漏情況是真空鍍鈦機真空度的一種檢查方法，簡(jiǎn)稱(chēng)檢漏。真空的凹凸度直接影響鍍膜的作用，因此檢漏是的。通常情況下，真空室的漏氣是由腔壁上的一些孔或元件前的薄接頭引起的。抽氣系統抽氣時(shí)，真空室內壓力降低。內外壓差使氣體從外部高壓流向低壓真空室，造成真空度降低。

在檢漏過(guò)程中，為了做好檢漏工作，有必要注意一些問(wèn)題。

，檢查虛漏是否仍為實(shí)漏，因為工件數據加熱后會(huì )出現不同程度的氣體，有可能被誤認為是從外部流出的氣體，這就是虛漏，要消除這種情況。

第二，測試真空室的氣密性功能，確保氣密性功能符合要求。

三、檢查漏孔的大小、形狀、方位、漏速，編制解決方案并實(shí)施。

四、得出檢測儀器檢漏的檢出率和靈敏度，要檢查刻度的泄漏情況，防止一些泄漏孔被疏忽，提高泄漏檢測的準確性。

五、掌握檢漏儀的反應時(shí)間和消除時(shí)間，把握好時(shí)間，檢漏儀操作到位，時(shí)間少，檢漏功能一定差，時(shí)間長(cháng)，浪費檢漏氣和人工電。

六、還要防止泄漏堵塞，有時(shí)由于操作失誤，在檢漏過(guò)程中，一些灰塵或液體將泄漏堵塞，認為孔的方向沒(méi)有泄漏，但當由于內外壓差進(jìn)展或其他原因導致泄漏孔未堵塞時(shí)，泄漏仍在那里。