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濺射鍍膜又分為很多種，總體看，與蒸發(fā)鍍膜的不同點(diǎn)在于濺射速率將成為主要參數之一。濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld，組分均勻性容易保持，而原子尺度的厚度均勻性相對較差（因為是脈沖濺射），晶向（外沿）生長(cháng)的控制也比較一般。
真空鍍膜機的污染物可以定義為“任何一種無(wú)用的物質(zhì)或能量”。多弧離子鍍膜機根據污染物的物理狀態(tài)可分為固態(tài)、氣態(tài)和液態(tài)，污染物以薄膜或顆粒的形式存在。就其化學(xué)特性而言，它可以是離子態(tài)或共價(jià)態(tài)，無(wú)機態(tài)或有機態(tài)。
在檢漏過(guò)程中，為了做好檢漏工作，有必要注意一些問(wèn)題。
，檢查虛漏是否仍為實(shí)漏，因為工件數據加熱后會(huì )出現不同程度的氣體，有可能被誤認為是從外部流出的氣體，這就是虛漏，要消除這種情況。
第二，測試真空室的氣密性功能，確保氣密性功能符合要求。
三、檢查漏孔的大小、形狀、方位、漏速，編制解決方案并實(shí)施。
四、得出檢測儀器檢漏的檢出率和靈敏度，要檢查刻度的泄漏情況，防止一些泄漏孔被疏忽，提高泄漏檢測的準確性。
五、掌握檢漏儀的反應時(shí)間和消除時(shí)間，把握好時(shí)間，檢漏儀操作到位，時(shí)間少，檢漏功能一定差，時(shí)間長(cháng)，浪費檢漏氣和人工電。
六、還要防止泄漏堵塞，有時(shí)由于操作失誤，在檢漏過(guò)程中，一些灰塵或液體將泄漏堵塞，認為孔的方向沒(méi)有泄漏，但當由于內外壓差進(jìn)展或其他原因導致泄漏孔未堵塞時(shí)，泄漏仍在那里。
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