石英粉是用純石英（天然石英或熔融石英）經(jīng)破碎、揀選、清洗、酸處理、高溫熔化、中碎、細磨、分級、除鐵等多道工序加工而成的符合使用要求的粉體。石英粉分干法和水法兩種生產(chǎn)方式，各種常規規格：100M，150M，200M，325M，400M，600M，1500M及2000M(M為目數)。另外也可按客戶(hù)要求加工異型規格，要求粒度分布的一般也可加工。石英粉不分等級，只分規格。因其具備白度高，無(wú)雜質(zhì)、鐵量低等特點(diǎn)，故應用范圍廣。

用途：制造玻璃，耐火材料(爐料），冶煉硅鐵，涂料，橡膠填料，冶金熔劑，陶瓷，研磨材料，金屬表面處理等方面，在建筑中利用其有很強的抗酸性介質(zhì)浸蝕能力，制取耐酸混凝土及耐酸砂漿。

石英粉分干法和水法兩種生產(chǎn)方式:
　　1、干法生產(chǎn)石英粉，主要設備有磕石機、粉碎機、振動(dòng)篩等。其工藝流程為石英石礦料經(jīng)過(guò)磕石機加工成較小石料，石料再經(jīng)過(guò)粉碎機加工砂粒，然后經(jīng)過(guò)振動(dòng)篩篩分，在篩分過(guò)程中利用磁鐵棒和排磁鐵除鐵，然后分裝完畢入庫。
　　2、水法生產(chǎn)石英粉，主要設備有磕石機、石碾、烤房、振動(dòng)篩、水路系統等。
　　其工藝流程大致如下：石英石礦料經(jīng)過(guò)磕石機加工成較小石料，石料再經(jīng)過(guò)石碾碾壓成砂粒，碾壓時(shí)不停的加水，水帶著(zhù)砂粒流入沉淀池內，再把沉淀池內的砂粒運入烤房烘烤成干砂粒，然后再經(jīng)過(guò)振動(dòng)篩篩分，在篩分過(guò)程中利用磁鐵棒和排磁鐵除鐵，然后分裝完畢入庫。

石英粉的用途：用于玻璃行業(yè)可制造各種平板玻璃、夾絲玻璃、壓花玻璃、空心玻璃、泡沫玻璃、玻璃磚、各類(lèi)包裝瓶罐，玻璃器皿如：啤酒瓶、玻璃杯、保溫瓶及裝飾品，可以制造光學(xué)玻璃，玻璃儀器，玻璃纖維，導電玻璃，玻璃不及防射線(xiàn)特種玻璃。鑄造行業(yè)用于造型用沙。冶金行業(yè)可作冶煉添加劑，熔劑及各種硅鐵合金。耐火材料行業(yè)可作窯用高溫磚，普通磚及耐火材料等。水泥行業(yè)可作沙子水泥配料，加氣混凝土，普通制品等?；瘜W(xué)工業(yè)可制造水玻璃、硅膠、干燥劑，石油精煉催化劑。制造外墻涂料，馬路畫(huà)線(xiàn)漆等。

石英粉、石英砂、硅微粉水分含量,根據相關(guān)標準，石英砂（微硅粉）水分含量如下:
1.超純石英砂含水量≤5%
2.高純度石英砂≤5%
3.特純石英砂≤5%
4.低鐵石英砂≤8%
5.精制石英砂≤8%
6.普通石英砂≤8%
7.球形二氧化硅微粉水分0.05～0.1%
8.電爐回收二氧化硅微粉水分
SF96≤1%,SF93≤2%,SF90≤2.5%,SF88≤3%,SF85≤3%
石英粉、石英砂、硅微粉水分含量檢測方法：
1.烘箱法 2.快速水分儀測定法

超細石英粉可以達到3000目，國內少數幾家生產(chǎn)，此類(lèi)產(chǎn)品應用基本都屬于精細化工，屬于戰略資源。石英粉具體介紹如下：　　
由高純石英粉經(jīng)的超細研磨工藝加工而成的產(chǎn)品我們一般稱(chēng)之為硅微粉，也可稱(chēng)為超細石英粉,是用途極為廣泛的無(wú)機非金屬材料.具有介電性能、熱膨脹系數低、導熱系數高、懸浮性能好等優(yōu)點(diǎn).因其具有優(yōu)良的物理性能、的化學(xué)穩定性、特的光學(xué)性質(zhì)及合理、可控的粒度分布。

優(yōu)點(diǎn)：
1、顯著(zhù)提高抗壓、抗折、抗滲、防腐、抗沖擊及耐磨性能，顯著(zhù)延長(cháng)砼的使用壽命，特別是在氯鹽污染侵蝕、硫酸鹽侵蝕、高濕度等惡劣環(huán)境下，可使砼的耐久性提高一倍甚至數倍?！　?br /> 2、具有保水、防止離析、泌水、大幅降低砼泵送阻力的作用。具有約5倍水泥的功效，在普通砼和低水泥澆注料中應用可降低成本。提高耐久性?！?br /> 3、提高澆注型耐火材料的致密性，在與Al2O3并存時(shí)，更易生成莫來(lái)石相，使其高溫強度，抗熱振性增強?！　?br /> 從而被廣泛應用于光學(xué)玻璃、電子封裝、電氣絕緣、陶瓷、油漆涂料、精密鑄造、硅橡膠、醫藥、化裝品、電子元器件以及超大規模集成電路、移動(dòng)通訊、手提電腦、航空航天等生產(chǎn)領(lǐng)域。

微硅粉的細度：硅灰中細度小于1微米的占80%以上，平均粒徑在0.1～0.3微米，比表面積為：20～28m2/g。其細度和比表面積約為水泥的80～100倍，粉煤灰的50～70倍。石英粉常用規格為400目，800目，1000目，1500目及2000目。
微硅粉的生產(chǎn)方法主要有：
，三氯氫硅法將干燥的硅粉加入合成爐中，與通入的干燥氯化氫氣體在280～330℃有氯化亞銅催化劑存在下進(jìn)行氯化反應，反應氣體經(jīng)旋風(fēng)分離除去雜質(zhì)，再用氯化鈣冷凍鹽水將氣態(tài)三氯氫硅冷凝成液體，經(jīng)粗餾塔蒸餾和冷凝，除去高沸物和低沸物，再經(jīng)精餾塔蒸餾和冷凝，得到精制三氯氫硅液體。純度達到7個(gè)“9”以上、雜質(zhì)含量小于1×10-7，硼要求在0.5×10-9以下。提純后的三氯氫硅送入不銹鋼制的還原爐內，用超純氫氣作還原劑，在1050～1100℃還原成硅，并以硅芯棒為載體，沉積而得多晶硅成品。
第二，用SiO2含量大約為95%的硅石和灰分少的焦炭混合，加熱到1900℃左右進(jìn)行還原。此方法制得的硅純度為97%～98%，被稱(chēng)作金屬硅。再將金屬硅融化后進(jìn)行重結晶，用酸除去雜質(zhì)，得到純度為99.7%～99.8%的金屬硅。如要將它做成半導體用硅，還要將其轉化成易于提純的液體或氣體形式，再經(jīng)蒸餾、分解過(guò)程得到多晶硅。如需得到高純度的硅，則需要進(jìn)行進(jìn)一步的提純處理。
第三， 用SiO2含量大約為95%的硅石和灰分少的焦炭混合，用1000～3000kVA開(kāi)式電弧爐，加熱到1900℃左右進(jìn)行還原。