金屬鋯靶材，金屬鉿靶，金屬鈦靶材
鎳靶、Ni、鈦靶、Ti、鋅靶、Zn、鉻靶、Cr、鎂靶、Mg、鈮靶、Nb、錫靶、Sn、鋁靶、Al、銦靶、In、鐵靶、Fe、鋯鋁靶、ZrAl、鈦鋁靶、TiAl、鋯靶、Zr、鋁硅靶、AlSi、硅靶、Si、銅靶Cu、鉭靶T、a、鍺靶、Ge、銀靶、Ag、鈷靶、Co、金靶、Au、釓靶、Gd、鑭靶、La、釔靶、Y、鈰靶、Ce、鎢靶、w、不銹鋼靶、鎳鉻靶、NiCr、鉿靶、Hf、鉬靶、Mo、鐵鎳靶、FeNi、鎢靶、W等。

磁控濺射靶材：鋯靶，鉿靶
磁控濺射靶材種類(lèi)：
金屬濺射鍍膜靶材，合金濺射鍍膜靶材，陶瓷濺射鍍膜靶材，硼化物陶瓷濺射靶材，碳化物陶瓷濺射靶材，氟化物陶瓷濺射靶材，氮化物陶瓷濺射靶材，氧化物陶瓷靶材，硒化物陶瓷濺射靶材，硅化物陶瓷濺射靶材，硫化物陶瓷濺射靶材，碲化物陶瓷濺射靶材，其他陶瓷靶材，摻鉻一氧化硅陶瓷靶材（Cr-SiO），磷化銦靶材（InP），化鉛靶材（PbAs），化銦靶材（InAs）。 [2]


磁控濺射原理：
在被濺射的靶極（陰極）與陽(yáng)極之間加一個(gè)正交磁場(chǎng)和電場(chǎng)，在高真空室中充入所需要的惰性氣體（通常為Ar氣），磁鐵在靶材料表面形成250～350高斯的磁場(chǎng)，同高壓電場(chǎng)組成正交電磁場(chǎng)。在電場(chǎng)的作用下，Ar氣電離成正離子和電子，靶上加有一定的負高壓，從靶極發(fā)出的電子受磁場(chǎng)的作用與工作氣體的電離幾率，在陰極附近形成高密度的等離子體，Ar離子在洛侖茲力的作用下加速飛向靶面，以很高的速度轟擊靶面，使靶上被濺射出來(lái)的原子遵循動(dòng)量轉換原理以較高的動(dòng)能脫離靶面飛向基片淀積成膜。磁控濺射一般分為二種：直流濺射和射頻濺射，其中直流濺射設備原理簡(jiǎn)單，在濺射金屬時(shí)，其速率也快。而射頻濺射的使用范圍更為廣泛，除可濺射導電材料外，也可濺射非導電的材料，同時(shí)還可進(jìn)行反應濺射制備氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。若射頻的頻率提高后就成為微波等離子體濺射，如今，常用的有電子回旋共振(ECR）型微波等離子體濺射。

化工反應釜的工作方式：
一般與瑭玻璃鋼反應釜配合，作蒸汽加熱或水冷卻之用。管內大壓力根據臂厚不同可承受壓力６～２０㎏，換熱面積按設計要求制作。
1、耐用程度遠比（搪玻璃反應釜）高出３－５倍（一但搪玻璃釜內膽磕碰，掉釉，壽命只有4-12個(gè)月）
2、加熱或冷卻效率比（搪玻璃反應釜）在單位容器，單位時(shí)間快6個(gè)小時(shí)，也就是說(shuō)如果改用鋯盤(pán)管換熱，兩臺釜可以出來(lái)三臺的產(chǎn)量。
3、我公司有豐富的改裝，維護，施工經(jīng)驗。
如果有對此產(chǎn)品有興趣的朋友可以給我電話(huà)，一起探討，用鋯材的換熱器價(jià)格肯定比搪玻璃的貴，比方一套6300L的釜，使用R60702鋯材盤(pán)管換熱器價(jià)格大概15W，但是經(jīng)過(guò)我公司改裝過(guò)的和新上這種設備的客戶(hù)在使用后，對本產(chǎn)品都是肯定的，貴的值得，貴的有道理，不論是在經(jīng)濟上（假以時(shí)日鋯換熱器還是比搪玻璃經(jīng)濟），還是在生產(chǎn)（產(chǎn)量），維護上（零維護），比使用搪玻璃換熱的要好的多