化學(xué)組分上的均勻性： 就是說(shuō)在薄膜中，化合物的原子組分會(huì )由于尺度過(guò)小而很容易的產(chǎn)生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過(guò)程不科學(xué)，那么實(shí)際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學(xué)成分，這也是真空鍍膜的技術(shù)含量所在。 具體因素也在下面給出。

多功用磁控濺射鍍膜系統，由真空鍍膜系統和手套箱系統集成而成，可在高真空蒸鍍腔室中完結薄膜蒸鍍，并在手套箱高純惰性氣體氣氛下進(jìn)行樣品的寄存、制備以及蒸鍍后樣品的檢測。蒸騰鍍膜與手套箱組合，實(shí)現蒸鍍、封裝、測驗等工藝全封閉制造，使整個(gè)薄膜生長(cháng)和器材制備過(guò)程高度集成在一個(gè)完整的可控環(huán)境氣氛的系統中，消除有機大面積電路制備過(guò)程中大氣環(huán)境中不穩定因素影響，保障了高功用、大面積有機光電器材和電路的制備。

定期保養，有人會(huì )問(wèn)常規保養和定期保養的區別?事實(shí)上，每個(gè)設備都有使用壽命。例如，用于擴散泵的硅油具有大約兩年的使用壽命。我們早點(diǎn)換掉它。這是浪費嗎?不，在生產(chǎn)中，設備故障是不可能發(fā)生的事情。做好日常維護和定期保養，不僅可以延長(cháng)設備的使用壽命，還可以減少運行故障，提高生產(chǎn)效率。

真空鍍膜機的污染物可以定義為“任何一種無(wú)用的物質(zhì)或能量”。多弧離子鍍膜機根據污染物的物理狀態(tài)可分為固態(tài)、氣態(tài)和液態(tài)，污染物以薄膜或顆粒的形式存在。就其化學(xué)特性而言，它可以是離子態(tài)或共價(jià)態(tài)，無(wú)機態(tài)或有機態(tài)。

真空是支撐真空鍍膜機運行的環(huán)境，尤其是需要高真空度的設備。通常，我們需要達到高的真空度，而抽氣系統的功能是不可缺少的。但是除了抽氣系統之外，真空鍍膜設備的操作還有一點(diǎn)，就是工件的脫氣。有些工件內部有大量氣體和水分，在設備加熱時(shí)會(huì )排入真空室，降低真空度。更有甚者，有些氣體含有有毒成分，直接破壞真空室內部機械結構，導致設備無(wú)法正常運行。

檢查泄漏情況是真空鍍鈦機真空度的一種檢查方法，簡(jiǎn)稱(chēng)檢漏。真空的凹凸度直接影響鍍膜的作用，因此檢漏是的。通常情況下，真空室的漏氣是由腔壁上的一些孔或元件前的薄接頭引起的。抽氣系統抽氣時(shí)，真空室內壓力降低。內外壓差使氣體從外部高壓流向低壓真空室，造成真空度降低。